電 鍍 標(biāo) 準(zhǔn)
鋁及鋁合金電鍍前表面準(zhǔn)備方法 JB/T 6986
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了鋁及鋁合金電鍍前一般應(yīng)進(jìn)行的表面準(zhǔn)備方法，包括清洗、表面調(diào)整處理、浸鍍、預(yù)鍍等。適用于鋁及鋁合金（包括常用鑄鋁、變形鋁合金）的表面準(zhǔn)備。不適用于電鑄用鋁和鋁合金模芯的表面準(zhǔn)備。引用標(biāo)準(zhǔn) GB1173 鑄造鋁合金技術(shù)條件 GB3190鋁及鋁合金加工產(chǎn)品的化學(xué)成份 GB5270金屬基體上的金屬覆蓋層術(shù)語清洗cleaning 清除工件表面油污或外來物的工藝過程。表面調(diào)整處理conditioning 把工件表面狀態(tài)轉(zhuǎn)變成適合于以后工序進(jìn)行成功處理的工藝過程。
電鍍準(zhǔn)備方法的選用鋁件電鍍前表面準(zhǔn)備工藝過程一般為清洗------表面調(diào)整-------浸鍍-------預(yù)鍍，經(jīng)過熱處理的鋁件，清洗前還需采用機(jī)械磨光、拋光加工或酸、堿浸蝕以除去熱處理氧化膜。
選用表面準(zhǔn)備方法時(shí)，應(yīng)注意區(qū)別下述情況：
a.鋁件的材料牌號（對照GB1173和GB3190）；
b.鋁件的制造方法，例如是鑄造或壓力加工方法制造等；
c.鋁件是否經(jīng)過熱處理。其它鍍前準(zhǔn)備方法的選用根據(jù)不同的情況，實(shí)際生產(chǎn)中也可采用清洗------表面調(diào)整-------陽極氧化，或吹砂------清洗-----表面調(diào)整---------出光等鍍前準(zhǔn)備工藝。
除浸鋅外，也可浸鍍鎳、鎳鋅合金、鐵等重金屬，在選用這些工藝過程時(shí)，電鍍后的鋁件應(yīng)按GB5270規(guī)定的方法進(jìn)行試驗(yàn)，電鍍層必須符合結(jié)合強(qiáng)度良好的要求。
清洗和表面調(diào)整的處理清洗清洗工藝由蒸汽除油，有機(jī)溶劑清洗，可溶性乳化劑清洗，鋁材料清洗劑清洗及相應(yīng)的水漂洗工序組成。常用的有熱碳酸鹽-磷酸鹽水溶液清洗液。油污嚴(yán)重的鋁件開始清洗時(shí)可采用弱堿性或弱酸性溶液清洗。表面調(diào)整處理的目的 a.除去鋁件表面原有的氧化膜；b.除去表面有害的微量成份。常用的表面調(diào)整處理溶液通常的表面調(diào)整處理是在中等溫度的氫氧化鈉溶液中浸漬后充分的水漂洗，再浸入硝酸-氟化氫銨溶液以除去表面掛灰，然后水漂洗干凈。為 了防止氫氧化物和氟化物對環(huán)境的污染，也可選用硫酸-過氧化氫溶液代替硝酸-氟化氫銨溶液。熱處理鋁件的表面調(diào)整經(jīng)過熱處理的鋁件，要求進(jìn)行機(jī)械加工或磨光的，可用拋光、磨光的方式除去氧化膜，然后進(jìn)行適當(dāng)?shù)谋砻嬲{(diào)整處理，不能進(jìn)行機(jī)械加工或磨光的鋁件表面應(yīng)選用酸浸蝕的方法除去氧化膜，常用的酸浸蝕的溶液為熱的硫酸-鉻酸溶液，也可采用某些行之有效的專利浸蝕液。軋制鋁件的表面調(diào)整處理采用工業(yè)純鋁如L5、L6，防銹鋁如LF21等軋制型材準(zhǔn)備的鋁件，用碳酸鹽-磷酸鹽溶液清洗后，于室溫在硝酸中浸漬能得到滿意的效果。
鋁鎂合金的表面調(diào)整處理鋁鎂合金零件如防銹鋁LF2，鍛鋁LD2、LD31等的表面處理調(diào)整處理可采用熱硫酸浸蝕，本方法對于鍛鋁等變形銘鎂合金和鑄造的鋁鎂合金均較理想，浸蝕時(shí)間與合金類型有關(guān)，一般鑄鋁的浸蝕時(shí)間較短。含硅鑄鋁合金件的表面調(diào)整處理含水量硅量較高的鑄鋁合金，如ZL101、ZL101A、ZL102、ZL108、ZL109等在硝酸-氫氟酸混合液中進(jìn)行表面調(diào)整處理。該溶液也可用于表面不宜進(jìn)行磨、拋光加工的熱處理后的鑄件除去熱處理氧化膜。
浸鍍和預(yù)鍍經(jīng)過清洗和表面調(diào)整處理后的鋁件表面應(yīng)浸鍍或浸鍍并預(yù)鍍，常采用浸鋅、浸鋅并預(yù)鍍銅、浸鋅并預(yù)鍍鎳、浸錫并預(yù)鍍青銅方式進(jìn)行。某些牌號或經(jīng)過某些方式熱處理之后的鋁件，為了得到理想的效果，往往要對上述工藝或槽液稍作修改。浸鋅理想的浸鋅層應(yīng)該是薄而均勻一致，結(jié)晶細(xì)致且有一定的金屬光澤，與基體結(jié)合牢固。浸鋅層的質(zhì)量受合金的類型、表面調(diào)整處理工藝和浸鋅工藝的影響。鋅層的沉積量一般為15~50微克/平方厘米，相應(yīng)的厚度為20~72納米，理想的沉積量不家宜超過30微克/平方厘米，過多的沉積量易形成海綿狀鋅層，與基體的結(jié)合強(qiáng)度也差。浸鋅分一次浸鋅和二次浸鋅。浸鋅后的鋁件，通常在電鍍其他金屬之前采用適當(dāng)?shù)墓に囋诮\層上預(yù)鍍一層銅，也可以在浸鋅層上直接電鍍銀、黃銅、鋅或鉻。選用的電鍍工藝應(yīng)適合在鋅上電鍍，并且工件應(yīng)帶電入槽。
浸鋅溶液一般較濃，工件的帶出液將使溶液成份發(fā)生變化，故應(yīng)按化驗(yàn)結(jié)果經(jīng)常補(bǔ)充組份，以保證浸鋅層質(zhì)量。浸鋅溶液的種類較多，而且不同類型的鋁件，常常選用不同的浸鋅溶液，無論選用何種浸鋅溶液，以后的電鍍層均應(yīng)滿足GB5270規(guī)定的結(jié)合強(qiáng)度試驗(yàn)要求。二次浸鋅第一次浸鋅層粗糙多孔、附著不良，可采用二次浸鋅。二次浸鋅后能得到細(xì)致、均勻略具金屬光澤的鋅層。兩次浸鋅可在同一槽中進(jìn)行，也可先在較濃的溶液中，后在較稀的溶液中進(jìn)行。為了獲得理想的鋅層，有時(shí)甚至要進(jìn)行多次浸鋅。
第一層鋅在硝酸溶液中退除。第一次浸鋅時(shí)間為45秒；第二次浸鋅時(shí)間為30秒。注意事項(xiàng)浸鋅時(shí)的掛具不能用銅或銅合金，以防止銅和鋁或鋁合金接觸發(fā)生置換，應(yīng)將掛具上的鋼絲、銅或銅合金鍍鎳后再作浸鋅使用，或者選用鋁絲或非金屬材料作為浸鋅掛具。浸鋅并預(yù)鍍銅經(jīng)清洗，表面調(diào)整處理，一次浸鋅或二次浸鋅后的鋁件，可在氰化鍍銅溶液中預(yù)鍍銅，充分水洗后再轉(zhuǎn)入其他電鍍?nèi)芤褐须婂儭＝\并預(yù)鍍鎳經(jīng)清洗，表面調(diào)整處理，一次浸鋅或二次浸鋅后的鋁件，也可在接近中性的鎳槽中預(yù)鍍鎳，然后作進(jìn)一步的電鍍。浸錫并預(yù)鍍青銅在潮濕的腐蝕性環(huán)境中，浸鋅層易發(fā)生橫向腐蝕而使電鍍層剝落。在此情況下可采用浸錫后預(yù)鍍青銅。浸錫鋁件按規(guī)定進(jìn)行清洗調(diào)整后，充分漂洗再在含有錫酸鹽的某些專利浸錫溶液中進(jìn)行浸鍍或帶電入槽閃鍍錫后預(yù)鍍青銅。預(yù)鍍青銅浸錫后不用水漂洗即可在適宜的氰化電解液中預(yù)鍍青銅，然后充分水洗再轉(zhuǎn)入其他電鍍槽中電鍍。本標(biāo)準(zhǔn)中要使用某些腐蝕性和劇毒性藥品，應(yīng)采取適當(dāng)?shù)陌踩胧Ｇ杌锖退崽幚砉ば蛑g一定要有充分的水漂洗工序。
金屬覆蓋層 鋼鐵上的鎘電鍍層 GB/T 13346
1 主題內(nèi)容與適用范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了鋼鐵上的鎘電鍍層的技術(shù)要求和檢驗(yàn)方法。適用于在各種條件下防止鋼鐵腐蝕的鎘電鍍層。不適于未加工成形的板材、帶材、線材的鎘電鍍層 。也不適用于可能同食物或飲料接觸的物件的鍍層。本標(biāo)準(zhǔn)不適用于：（1）未加工成型的板材、帶材或線材的鎘電鍍層；（2）可能同食物或飲料接觸的物件的鍍層（鎘的毒性對人體會造成嚴(yán)重的危害）。
2 引用標(biāo)準(zhǔn) GB1238金屬鍍層及化學(xué)處理表示方法。 GB4955金屬覆蓋層厚度測量 陽極溶解庫侖方法。 GB4956磁性金屬基體上非磁性覆蓋層厚度測量 磁性方法。 GB5270金屬基體上金屬覆蓋層（電沉積層和化學(xué)沉積層）附著強(qiáng)度試驗(yàn)方法。 GB6458金屬覆蓋層 中性鹽霧試驗(yàn)（NSS試驗(yàn)）。 GB6462金屬和氧化物覆蓋層 橫截面厚度顯微鏡測量方法。 GB6463金屬和其他無機(jī)覆蓋層 厚度測量方法評述。 GB9800電鍍鋅和電鍍鎘層的鉻酸鹽轉(zhuǎn)化膜。 GB12609電沉積金屬覆蓋層和有關(guān)精飾計(jì)數(shù)抽樣檢查程序。 GB/T12611金屬零（部）件鍍覆前質(zhì)量控制技術(shù)要求。
3 術(shù)語（1）主要表面制件上某些已作或待作覆蓋的表面，在該表面上覆蓋層對制件的外觀和（或）使用性能是重要的。（2）局部厚度在基本測量面內(nèi)進(jìn)行規(guī)定次數(shù)厚度測量的算術(shù)平均值。（3）最小局部厚度在單個工件的主要表面上測得的局部厚度最小值。
4 鍍覆前零（部）件的基體金屬的質(zhì)量應(yīng)達(dá)到GB/T12611的規(guī)定，否則，供需雙方另行商定。
5 需方應(yīng)向供方提供的資料（1）本標(biāo)準(zhǔn)號（GB/T13346）；（2）對鍍層厚度的要求；（3）主要表面用圖紙或適當(dāng)標(biāo)記指明；（4）基體金屬的性能、表面狀態(tài)和加工精度；（5）鍍層表面外觀要求；（6）鍍前和鍍后的熱處理要求；（7）鉻酸鹽或其它轉(zhuǎn)化膜的類型。應(yīng)注意：只在當(dāng)需方特別要求時(shí)，才能省去鉻酸鹽轉(zhuǎn)化膜或應(yīng)用代用的轉(zhuǎn)化膜；（8）抽樣或檢驗(yàn)要求；（9）鍍前準(zhǔn)備 和電鍍過程的任何特殊要求和限制；（10）鎘電鍍件的包裝、儲存或運(yùn)輸要求。
6 鍍層表示方法鎘電鍍層的表示方法按GB1238的規(guī)定。
7 鍍層厚度系列（1）使用條件、使用壽命鎘鍍層在海洋氣氛條件下具有優(yōu)良的耐蝕能力，選取鎘鍍層的厚度，取決于使用環(huán)境的嚴(yán)酷程度和（或）使用壽命的長短。Fe/Cd 5 c一般僅用于干燥的室內(nèi)環(huán)境，如果使用環(huán)境比較嚴(yán)酷和（或）使用壽命較長，則應(yīng)采用較厚的鎘鍍層。
金屬覆蓋層 工程用鎳電鍍層 GB 12332
1 主題內(nèi)容與適用范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了黑色金屬和有色金屬上的工程用鎳電鍍層的要求。適用于工程用鎳電鍍層，也適用于最小厚度在30μm以上的防護(hù)裝飾性鎳鍍層。不適用于主要用于裝飾目的的鎳鍍層和最小厚度在30μm以下的防護(hù)裝飾性鎳鍍層。
2 引用標(biāo)準(zhǔn) GB11379金屬覆蓋層 工程用鉻電鍍層 GB12609電沉積金屬覆蓋層和有關(guān)精飾 計(jì)數(shù)抽樣檢查程序 GB3505表面粗糙度 術(shù)語 表面及其參數(shù) GB4340金屬維氏硬度試驗(yàn)方法 GB4955金屬覆蓋層厚度測定 陽極溶解庫侖方法 GB5270金屬基體上金屬覆蓋層（電沉積層和化學(xué)沉積層）附著強(qiáng)度試驗(yàn)方法 GB6462金屬和氧化物覆蓋層 橫斷面厚度顯微鏡測量方法 GB9797金屬覆蓋層 鎳+鉻和銅+鎳+鉻電鍍層
3術(shù)語 3.1主要表面指工件上某些已電鍍或待電鍍的表面，該表面上的鍍層對工件的外觀和（或）使用性能是重要的。 3.2最小局部厚度在一個工件的主要表面上所測得的局部厚度的最小值，也稱最小厚度。
4抽樣為了檢查鍍鎳層是否符合本標(biāo)準(zhǔn)第7章的各項(xiàng)要求，應(yīng)按GB12609的規(guī)定抽樣。
5需方應(yīng)向供方提供的資料 a.本標(biāo)準(zhǔn)的標(biāo)準(zhǔn)號，即GB12332。 b.基體金屬的型號或規(guī)格，以及它的冶金學(xué)狀態(tài)。 c.電鍍前是否需要除應(yīng)力的處理。 d.電鍍前是否需要引入壓應(yīng)力的處理，例如噴丸。 e.有關(guān)主要表面和不需電鍍的所有表面的詳細(xì)說明。 f.對前處理有什么特殊要求和限制，例如用噴砂了取代酸的前處理。 g.對底鍍層有什么要求。 h.鎳層的最小厚度，如果使用底層，則是電鍍層的總厚度；如果有要求，最大厚度也要說明，特別是對于 磨損的或加工超差的工件修復(fù)。這些厚度是指電鍍件經(jīng)過所有機(jī)械加工之后的鍍層厚度。 i.所需的鎳層的類型，即暗的、光亮的、低應(yīng)力的等。 j.鎳層最后的表面精飾狀態(tài)，如電鍍后不加工的，機(jī)械加工的或拋光的。 k.允許缺陷的類型和（或）大小，這些缺陷在每一件，每一平面或每平方分米面上缺陷的數(shù)目。 l.電鍍后是否需要熱處理。 m.其他特殊的要求，如硬度、表面粗糙度等。
6基體金屬電鍍前的處理 6.1一般規(guī)定供方應(yīng)對工件主要表面進(jìn)行檢查，確認(rèn)是否有明顯的表面缺陷，如氣孔、裂紋和不合要求的覆蓋層，或者任何對最后的精飾不利的其他缺陷。所有缺陷都應(yīng)在作任何處理之前提請需方注意。 6.2消除應(yīng)力的熱處理若有規(guī)定，電鍍之前工件應(yīng)當(dāng)消除應(yīng)力。常用的處理?xiàng)l件列于表1，也可采用不同于表1的處理?xiàng)l件，如適當(dāng)提高溫度和縮短時(shí)間，但應(yīng)由你倆但應(yīng)由供需雙方商定。如果消除應(yīng)力是在噴丸或其他冷加工過程之后進(jìn)行，則處理溫度不應(yīng)超過220℃。有表面淬火區(qū)域的工件，消除應(yīng)力應(yīng)在130至150℃處理至少5h。但是如果允許基體表面的硬度有所降低，則也可在較高溫度下作較短時(shí)間的處理。有色金屬通常不要作消除應(yīng)力的熱處理。 6.3噴丸 6.3.1鋼材如果需要用噴丸改善疲勞強(qiáng)度，除非另有規(guī)定，其噴丸強(qiáng)度應(yīng)符合下述要求。當(dāng)用附錄C（補(bǔ)充件）規(guī)定的方法測量時(shí)，弧高度至少是： a.對于抗張強(qiáng)度低于1100MPa的鋼為0.3mm； b.對于抗張強(qiáng)度等于或大于1100MPa的鋼為0.4mm。如果沒有另外的規(guī)定，噴丸時(shí)應(yīng)使有關(guān)的部位完全噴到。 6.3.2有色金屬有色金屬的噴丸強(qiáng)度應(yīng)由需方規(guī)定。
7對鍍層的要求 7.1外觀電鍍后未經(jīng)加工的鍍件，其主要表面的外觀應(yīng)符合附錄B（參考件）規(guī)定的要求，而且當(dāng)目視檢查時(shí)，不應(yīng)有麻點(diǎn)、裂紋、起泡、脫皮和結(jié)晶粗大或任何對最后的精飾有不良影響的其他缺陷。如果鍍件在由供方進(jìn)行熱處理或磨光過程中產(chǎn)生了肉眼可見的氣泡或裂 紋，則為廢品。 7.2表面粗糙度如果規(guī)定了最后表面粗糙度值，可按GB3505的規(guī)定進(jìn)行測量其結(jié)果應(yīng)達(dá)到需方要求。 7.3厚度主要表面上精飾后鍍層和底層的最小厚度應(yīng)由需方規(guī)定。 7.4硬度若規(guī)定了硬度值，可按GB4340的規(guī)定進(jìn)行測量，其結(jié)果應(yīng)達(dá)到需方要求。 7.5結(jié)合強(qiáng)度結(jié)合強(qiáng)度（附著強(qiáng)度）按GB5270規(guī)定進(jìn)行試驗(yàn)后，鍍層與基體，鍍層與底層之間結(jié)合良好，不應(yīng)有任何分離。 7.6孔隙率若有規(guī)定，電鍍后的鋼鐵工件應(yīng)按9.2的規(guī)定進(jìn)行孔隙率試驗(yàn)，試驗(yàn)結(jié)果評級方法和GB9797附錄B加速腐蝕試驗(yàn)結(jié)果評價(jià)方法相同，如果沒有其他規(guī)定，其評級不應(yīng)低于8。
8電鍍后的熱處理 8.1一般規(guī)定如果需方有要求，電鍍后的熱處理應(yīng)在所有磨光或其他機(jī)械加工精飾操作之前按8.2和8.3的規(guī)定在電鍍后4h內(nèi)盡快進(jìn)行。 8.2鋼鐵件消除氫脆的熱處理為了減少氫脆，電鍍后的鋼鐵件應(yīng)按表2的要求進(jìn)行熱處理。工件的熱處理溫度不能超過它們的回火溫度。未噴丸的工件可以在較高溫度下作較短時(shí)間處理，但應(yīng)由供需雙方商定。 具有表面淬火區(qū)域的工件，應(yīng)在130～150℃處理至少2h,如果允許基體的硬度有所降低,也可用較高溫度處理。 8.3鋁和鋁合金件提高結(jié)合強(qiáng)度的熱處理必須 注意，加熱可能對某些鋁合金和鎳鍍層的機(jī)械性能產(chǎn)生不良的影響。如果希望通過熱處理提高鍍層與鋁合金的結(jié)合強(qiáng)度，電鍍件應(yīng)按2～3℃/min的升溫速度加熱到130～140℃，并在此溫度下保持2～3h。
9試驗(yàn)方法 9.1鍍層厚度的測定鍍層厚度測定在需方指定的主要表面上的任何位置進(jìn)行，所用方法測量誤差必須小于10%。 9.1.1直接測量確定一個參考點(diǎn)，測定前后該點(diǎn)的厚度便可得出鍍層厚度。這可使用普通的工程量具，如千分尺、深度規(guī)等進(jìn)行。 9.1.2顯微鏡法使用GB6462規(guī)定的方法 。如果需要浸蝕，可以選用以下浸蝕液： a.等體積的硝酸（密度為1 .42g/ml)和冰醋酸的混合液； b. 一份體積的硝酸（密度為1.42g/ml)九五份體積的冰醋酸的混合液。 9.1.3庫侖法使用GB4955規(guī)定的方法。用這種方法測量50微米以上的厚度時(shí)，其可靠性要減少。9.1.4輪廓儀法使用有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的方法。 9.2鋼鐵工件上鎳鍍層的孔隙率試驗(yàn)將有一定濕強(qiáng)度的濾紙條浸入一微熱（約35℃)的含50g/l氯化鈉和50g/l明膠的溶液中,然后將其干燥備用。試驗(yàn)時(shí)先將濾紙浸入含50g/l氯化鈉和1g/l非離子型潤濕劑的溶液中，然后取出濾紙，將其緊密貼附在凈化后待試驗(yàn)后的鎳表面上，用氯化鈉溶液保持濾紙潤濕，經(jīng)10分鐘后，取下濾紙，立刻將其浸入到含10g/l的鐵氰化鉀溶液中，取出觀察濾紙上的藍(lán)色印痕，進(jìn)行評級。如有必要，可進(jìn)行評行試驗(yàn)。
金屬覆蓋層 錫電鍍層 GB 12599
1 主題內(nèi)容與適用范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了錫電鍍層 的技術(shù)要求和試驗(yàn)方法。適用于金屬制品上防腐蝕和促進(jìn)焊接的錫電鍍層。 本標(biāo)準(zhǔn)不適用于：螺紋和彈簧件上的錫鍍層；銅絲上的錫鍍層；未加工成型的板材、帶材或線材上的錫鍍層；采用化學(xué)方法（浸、或化學(xué)鍍）獲得的錫鍍層；抗拉強(qiáng)度大于1050MPa（或相應(yīng)硬度的）的鋼上的錫鍍層。
2引用標(biāo)準(zhǔn) GB2423.28電工電子產(chǎn)品基本環(huán)境試驗(yàn)規(guī)程 試驗(yàn)T：錫焊試驗(yàn)方法。 GB4955金屬 覆蓋層厚度測定 陽極溶解庫侖方法。 GB4956磁性金屬基體上 金屬覆蓋層（電沉積層和化學(xué)沉積層）附著強(qiáng)度 試驗(yàn)方法 GB5270金屬覆蓋層 中性鹽霧試驗(yàn)（NSS試驗(yàn)） GB6462金屬和氧化物覆蓋層 橫斷面厚度顯微鏡測量方法 GB9789金屬和其他非有機(jī)覆蓋層 通常凝露條件下的二氧化硫腐蝕試驗(yàn)。 GB12609電沉積金屬覆蓋層和有關(guān)精飾計(jì)數(shù)抽樣檢查程序。
3術(shù)語 3.1主要表面制件上某些已電鍍或待電鍍的表面。在該表面上鍍層對制件的外觀和（或）使用性能是重要的。 3.2最小厚度在一個制件的主要表面上的測得的局部厚度最小值。 3.3熔流是一種用熔融的方法消除鍍層缺陷，改善鍍層光亮度和焊接性等的工藝過程。
4需方應(yīng)向供方提供的資料 4.1必要資料 a.本標(biāo)準(zhǔn)的標(biāo)準(zhǔn)號，即GB12599； b.基體材料的性能； c.鍍層使用條件和鍍層分類； d.標(biāo)明制件待鍍的主要表面，可在圖樣上標(biāo)明或提供具有適當(dāng)標(biāo)志的樣品； e.驗(yàn)收抽樣方法； f.不可避免的接觸]痕跡位置和其他可允許的缺陷； g.采用的結(jié)合強(qiáng)度試驗(yàn)方法。 4.2補(bǔ)充資料如果需要，還要提供以下資料： a.熱處理要求； b.孔隙率要求； c.焊接性要求； d.底鍍層要求； e.外觀要求或提供表明外觀要求的樣品； f.預(yù)處理要求； g.錫鍍層純度要求； h.其他任何特殊要求。
5分類 5.1使用條件分類 使用條件按使用環(huán)境條件的嚴(yán)酷程度分為四類： 1——用于焊接和干燥的戶內(nèi)條件； 2——用于潮濕的戶內(nèi)條件； 3——用于一般戶外條件； 4——用于戶外嚴(yán)酷腐蝕條件，或同食物，飲料接觸，在此條件下，必須全部覆蓋錫鍍層，使得制件不易腐蝕和磨損。 5.2鍍層分類 鍍層分類由四部分組成，其中前兩部分必須用一斜線分開。如：a/bcd 其中： a——標(biāo)出基體金屬化學(xué)符號（如為合金，則標(biāo)出其主要成分）； b——標(biāo)出底鍍層金屬 的化學(xué)符號（如為合金，則標(biāo)出其主要成分）；接著標(biāo)出底鍍層最小厚度（微米）值。如無底鍍層，則可以免去； c——標(biāo)出錫鍍層的化學(xué)符號Sn，接著標(biāo)出錫鍍層的最小厚度（微米）值； d——標(biāo)出表面的光澤度。用m表示無光鍍層；b表示光亮鍍層；f表示熔流鍍層。示例：Fe/Ni2.5 Sn 5f 此處表示鋼或鐵為基體金屬，底層為厚度2.5微米的鎳鍍層，錫鍍層厚度為5微米，且為熔流鍍層。
金屬覆蓋層 工程用銅電鍍層 GB/T 12333
1主題內(nèi)容與適用范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了金屬基體上工程用銅電鍍層的有關(guān)技術(shù)要求。適用工程用途的銅電鍍層，例如在熱處理零件表面起阻擋層作用的銅電鍍層；拉拔絲加工過程中要求起減磨作用的銅電鍍 層 ；作錫鍍層的底層防止基體金屬擴(kuò)散的銅電鍍層等。本標(biāo)準(zhǔn)不適用于裝飾性用途的銅電鍍層和銅底層及電鑄用銅電鍍層。
2 引用標(biāo)準(zhǔn) GB1238 金屬 鍍層及化學(xué)處理表示方法 GB2423.28 電工電子產(chǎn)品基本環(huán)境試驗(yàn)規(guī)程 試驗(yàn)T：錫焊試驗(yàn)方法 GB4955 金屬覆蓋層厚度測定 陽極溶解庫侖方法 GB4956 磁性金屬基體上非磁性覆蓋層厚度測量 磁性方法 GB5270 金屬基體上金屬覆蓋層（電化學(xué)沉積層和化學(xué)沉積層）附著強(qiáng)度試驗(yàn)方法 GB5931輕工產(chǎn)品金屬鍍層和化學(xué)處理層的厚度測試方法 β射線反向散射法 GB6462 金屬和氧化物覆蓋層 橫斷面厚度顯微鏡測量方法 GB6463 金屬和其他無機(jī)覆蓋層 厚度測量方法 評述 GB12609電沉積金屬覆蓋層和有關(guān)精飾計(jì)數(shù)抽樣檢查程序 GB12334 金屬和其他無機(jī)覆蓋層 關(guān)于厚度測量的定義和一般規(guī)則
3 術(shù)語 3.1主要表面制件上某些已電鍍或待電鍍的表面，在該表面上鍍層對制件的外觀和（或）使用性能是重要的。 3.2最小局部厚度在一個制件的主要表面上所測得的局部厚度的最小值，也稱最小厚度。
4 鍍層的表示方法鍍銅層及有關(guān)處理的表示方法見GB1238。
5基體金屬 本標(biāo)準(zhǔn)未對基體金屬電鍍前的表面狀態(tài)作任何規(guī)定，但供需雙方對其進(jìn)行商定。
6需方應(yīng)向供方提供的資料 6.1必要資料 a.本標(biāo)準(zhǔn)的標(biāo)準(zhǔn)號，即GB12333； b.銅電鍍層的最小厚度要求； c.主要表面，應(yīng)在定貨單或圖紙上標(biāo)明，也可用適當(dāng)標(biāo)記的樣品說明； d.抽樣方案； e.破壞性試驗(yàn)的試樣數(shù)量； f.是否進(jìn)行孔隙率試驗(yàn)，需進(jìn)行時(shí)，應(yīng)說明孔隙率的要求；g.是否進(jìn)行可焊性試驗(yàn)，需進(jìn)行時(shí)，應(yīng)說明有關(guān)細(xì)節(jié)； h.是否進(jìn)行氫脆性試驗(yàn)，需進(jìn)行時(shí)，應(yīng)說明試驗(yàn)方法和要求； i.規(guī)定的銅鍍層的厚度是否有尺寸公差的要求，若有要求，應(yīng)說明公差值。 6.2附加資料必要時(shí)需方還應(yīng)提供下述資料： a.基體材料牌號； b.零件的最大抗張強(qiáng)度或硬度； c. 是否已經(jīng)作過或需要作消除應(yīng)力的熱處理； d.是否要求作消除氫脆的熱處理； e.銅鍍件的包裝、貯存或運(yùn)輸要求。 6.3必要時(shí)，需方應(yīng)提供代替產(chǎn)品進(jìn)行試驗(yàn)的試樣，即替代試樣。
金屬覆蓋層 工程用鉻電鍍層 GB 11379
1主題內(nèi)容與適用范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了工程用鉻電鍍層的表示方法、加工定貨時(shí)需方應(yīng)向供方提供的資料、工件鍍前鍍后的熱處理工藝規(guī)范、鍍層質(zhì)量要求、試驗(yàn)方法等。適用于黑色金屬或有色金屬基體上帶底鍍層或不帶底鍍層的工程用鉻電鍍層。工程用鉻電鍍層常被稱為“厚鉻”或“硬鉻”層。本標(biāo)準(zhǔn)不包括用于防護(hù)裝飾性目的的薄鉻面層。工程用鉻的應(yīng)用實(shí)例及有關(guān)說明見附錄A。
2 引用標(biāo)準(zhǔn) GB1238 金屬鍍層及化學(xué)處理表示方法 GB4955 金屬覆蓋層厚度測量 陽極溶解庫侖方法 GB4956磁性基體上非磁性覆蓋層（電沉積層和化學(xué)沉積層）附著強(qiáng)度試驗(yàn)方法 GB6458金屬覆蓋層 中性鹽霧試驗(yàn)（NSS試驗(yàn)） GB6462 金屬和氧化物覆蓋層 橫斷面厚度顯微鏡測量方法 GB6463 金屬和其他無機(jī)覆蓋層 厚度測量方法評述
3 術(shù)語主要表面：指工件上電鍍前和電鍍后的某些表面，該表面上的鍍層對于工件的外觀和（或）使用性能是起主要作用的。
4鍍層的表示方法鍍鉻層及有關(guān)處理的表示方法 按GB1238的規(guī)定。
5.需方應(yīng)向供方提供的資料 a.本標(biāo)準(zhǔn)的標(biāo)準(zhǔn)編號； b.基體金屬 的成分、含量或牌號以及它的金相組織狀態(tài)； c.鍍前是否需要作消除應(yīng)力的處理； d.是否需要作引入壓應(yīng)力的處理，如電鍍前噴丸； e.主要表面、不應(yīng)有鍍層的所有表面、允許鉻層延伸到的所有部位可用圖或有適當(dāng)標(biāo)記的樣品詳細(xì)說明； f.對于鍍前處理的任何要求或限制，例如用噴砂代替浸酸處理； g.若要求底層，要說明底層的類型，例如鎳層或無裂紋鉻層等； h.鉻層應(yīng)沉積的最小厚度，若要求底層還應(yīng)說明電鍍層的總厚度，若認(rèn)為必要，還應(yīng)說明鍍層的最大厚度，特別是磨損或超差零件的修復(fù)鍍鉻。上述鍍層的厚度均指經(jīng)過磨光之后精飾表面上鍍層的厚度； i.鉻層的類型，如多孔的、無裂紋的、微裂紋的、雙層的或常規(guī)的； j.鉻層最后的表面精飾狀態(tài)； k.允許的表面缺陷，包括缺陷的類型、尺寸、位置； l.工件電鍍后的任何熱處理要求； m.其他特殊要求。
6 基體金屬電鍍前的處理 6.1處理前的檢查處理前供方應(yīng)對主要表面進(jìn)行檢查，確認(rèn)是否有明顯的表面缺陷，如氣孔、裂紋和不允許有的覆蓋層，或者任何對最后的精飾不利的其他缺陷。所有缺陷都應(yīng)在進(jìn)行任何處理之前請需方注意。 6.2消除應(yīng)力若需方規(guī)定電鍍之前零件要作消除應(yīng)力的熱處理，一般按表一的工作條件進(jìn)行，也可采用不同的工作條件，如適當(dāng)提高溫度和縮短時(shí)間，但是，必須以行之有效的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)作為依據(jù)。熱處理應(yīng)在任何鍍前準(zhǔn)備和用水溶液作凈化處理之前進(jìn)行。如果消除應(yīng)力是在噴丸或其他冷加工過程之后進(jìn)行，則溫度不應(yīng)超過220℃表面淬火的工件，消除應(yīng)力應(yīng)在130～150℃至少處理5h，如果允許基體的表面硬度降低，則可以在較高溫度下作較短的時(shí)間處理。有色金屬是否要求作消除應(yīng)力的熱處理，由供需雙方商定。
金屬覆蓋層 鋼鐵上的鋅電鍍層 GB 9799
1主題內(nèi)容與適用范圍 本標(biāo)準(zhǔn)適用于在各種條件下防止鋼鐵腐蝕的鋅電鍍層。不適于未加工成形的鋼鐵板材、帶材、線材上的鋅電鍍層；鋼制密圈彈簧上的鋅電鍍層；鋼鐵上非防護(hù)裝飾性用途的鋅電鍍層。
2 引用標(biāo)準(zhǔn)下列標(biāo)準(zhǔn)所包含的條文，通過在本標(biāo)準(zhǔn)中引用而構(gòu)成為本標(biāo)準(zhǔn)的條文。本標(biāo)準(zhǔn)出版時(shí)，所示版式本均為有效。所有標(biāo)準(zhǔn)都會被修訂，使用標(biāo)準(zhǔn)的各方應(yīng)探討使用下列標(biāo)準(zhǔn)最新版本的可能性。 GB/T 4955—1997金屬覆蓋層 覆蓋層厚度測量 陽極溶解庫侖法（neq ISO 2177：1985） GB4956—85磁性金屬基體上非磁性覆蓋層厚度測量 磁性方法（eqv ISO2178:1982) GB5267—85螺紋緊固件電鍍層 GB6462—86金屬和氧化物覆蓋層 橫斷面厚度顯微鏡測量方法（eqv ISO1463：1982） GB/T9793—1997金屬和其他無機(jī)覆蓋層 熱噴涂 鋅鋁及其合金（neq ISO2063:1973） GB9800—88電鍍鋅和電鍍鎘層的鉻酸鹽轉(zhuǎn)化膜（eqv ISO4520：1981） GB11378—89金屬覆蓋層厚度過 輪廓尺寸測量方法（eqv ISO4518：1980） GB12334—90金屬和其他無機(jī)覆蓋層 關(guān)于厚度測量的定義和一般規(guī)則（eqv ISO2064：1980） GB12609—90電沉積覆蓋層和有關(guān)精飾計(jì)數(shù)抽樣檢查程序（eqv ISO4519：1980） GB/T13912—92金屬覆蓋層 鋼鐵制品熱鍍鋅層 技術(shù)要求（neq ISO1461：1973）
3定義本標(biāo)準(zhǔn)采用下列定義。 3.1主要表面significant surface 工件上某些已電鍍或待電鍍的表面，在該表面上鍍層對工件的外觀和（或）使用性能是重要的。3.2局部厚度local thickness 在主要表面內(nèi)進(jìn)行規(guī)定次數(shù)厚度測量的算術(shù)平均值。 3.3最小局部厚度minimum local thickness 在一個工件的主要表面上所測得的局部厚度的最小值。也稱最小厚度。
4 基體金屬本標(biāo)準(zhǔn)對電鍍鋅前基體金屬的表面狀態(tài)沒有提出要求。但供需雙方對基體的表面狀態(tài)應(yīng)商定一致。由于基體金屬表面質(zhì)量太差而使鋅鍍層達(dá)不到令人滿意的外觀和（或）使用性能的要求時(shí)，不能認(rèn)為電鍍生產(chǎn)質(zhì)量不合要求。
5需方應(yīng)向電鍍生產(chǎn)方提供的資料 a.本國家標(biāo)準(zhǔn)號GB/T9799 b.分級號，應(yīng)注意，需方必須提出分級號，僅要求按GB/T9799電鍍，而無分級號是不夠的； c.注明主要表面，例如用圖紙標(biāo)注或提供有適當(dāng)標(biāo)記的樣品； d.基體金屬的性質(zhì)，表面狀態(tài)和表面粗糙度； e.鍍層的外觀要求； f.電鍍前后的熱處理要求； g.鉻酸鹽或其他轉(zhuǎn)化膜的類型； h.抽樣和檢驗(yàn)要求； i.鍍前準(zhǔn)備和電鍍過程的任何特殊要求或限制。
6 使用條件、使用壽命和分級號 6.1使用條件和使用壽命的影響鋅鍍層的厚度要求取決于使用條件的嚴(yán)酷程度和使用壽命的長短。Fe/Zn5級一般僅用于干燥的室內(nèi)環(huán)境。隨使用環(huán)境變得更嚴(yán)酷（或）使用壽命要求更長時(shí)，所使用的鋅鍍層厚度須相應(yīng)增加。 6.2分級號分級號按下列順序構(gòu)成：
a.符號Fe，表示基體金屬鋼或鐵，后面接著一斜線；
b.符號Zn，表示鋅電鍍層；
c.數(shù)字，表示鋅鍍層的最小局部厚度，單位微米；
d.必要時(shí)，用符號表示鉻酸鹽轉(zhuǎn)化膜的存在、級別和類型。
例如：Fe/Zn25c1A 該分級號表示在鋼鐵基體上電鍍層至少為25微米，此外， c——鉻酸鹽轉(zhuǎn)化膜 1——鉻酸鹽轉(zhuǎn)化膜的級別，1級 A——鉻酸鹽轉(zhuǎn)化膜的類型，光亮型。
金屬覆蓋層 塑料上銅+鎳+鉻電鍍層 GB 12600
本標(biāo)準(zhǔn)等效采用國際標(biāo)準(zhǔn)ISO4525—1985《金屬覆蓋層塑料上鎳+鉻電鍍層》。
1 主題內(nèi)容與適用范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用于各類使用條件的塑料上電鍍銅+鎳+鉻鍍層的要求。適用于塑料基體上電鍍銅+鎳+鉻鍍層，也適用于塑料基體上電鍍鎳+鉻鍍層。
2 引用標(biāo)準(zhǔn) GB4955金屬覆蓋層的厚度測定 陽極溶解庫侖方法 GB6462金屬和氧化物覆蓋層 橫斷面厚度顯微鏡測量方法 GB6460金屬覆蓋層 銅加速醋酸鹽霧試驗(yàn)（CASS試驗(yàn)） GB9797金屬覆蓋層 鎳+鉻和銅+鎳+鉻電鍍層 GB/T12610塑料上電鍍層 熱循環(huán)試驗(yàn) GB12609電沉積金屬覆蓋層和有關(guān)精飾計(jì)數(shù)抽樣檢查程序
3 術(shù)語 3.1主要表面制件上某些已電鍍或待電鍍的表面，在該 表面上鍍層對制件的外觀和（或）使用性能是重要的。 3.2最小厚度在一個制件的主要表面上，所測得的局部厚度最小值。
4 需方應(yīng)向供方提供的資料 4.1本標(biāo)準(zhǔn)的標(biāo)準(zhǔn)號即GB12600。 4.2鍍層使用條件、鍍層分類和熱循環(huán)試驗(yàn)。 4.3外觀要求，例如光亮、無光或緞面，也可由需方提供能表明外觀要求的樣品。 4.4主要表面應(yīng)在工件圖樣上標(biāo)明，或用有適當(dāng)標(biāo)記的樣品表明。主要表面上不可避免的夾具痕跡位置也要標(biāo)明。
5 分類 5.1使用條件分類使用條件按使用環(huán)境條件的嚴(yán)酷程度分為四類： 1——用于干燥的戶內(nèi)條件； 2——用于潮濕的戶內(nèi)條件； 3——用于一般戶外條件； 4——用于戶外嚴(yán)酷腐蝕條件。 5.2鍍層分類鍍層分類依次由以下幾個部分組成。 PL——塑料基體材料； /——斜線，將基體與鍍層分開，基體在斜線前，鍍層在斜線后； Cu——銅鍍層，銅后面數(shù)字為銅鍍層最小厚度值，單位為微米； Ni——鎳鍍層，鎳后面數(shù)字為鎳鍍層最小厚度值，單位為微米；數(shù)字后面 字母（小寫）表示鎳鍍層類型：b代表全光亮鍍層；s代表不需機(jī)械拋光的暗鎳、緞面鎳或半光亮鎳；d代表雙層鎳或三層鎳； Cr——鉻鍍層，鉻后面的字母（小寫）表示鉻鍍層的類型：r代表普通鉻；mc代表微裂紋鉻；mp代表微孔鉻；字母后無數(shù)字時(shí)，表示鉻層厚度為0.3微米，若需方要求其他厚度則要在字母后用數(shù)字表示鍍層厚度。示例：PL/Cu15Ni.15b Cr mc 表示塑料基體上鍍銅層15微米，光亮鎳層15微米，微裂紋鉻層0.3微米。 5.3熱循環(huán)試驗(yàn)條件分類熱循環(huán)試驗(yàn)的溫度范圍分為三類： A——上限溫度75±2℃，下限溫度20±5℃； B——上限溫度75±2℃，下限溫度—20±2℃； C——上限溫度75±2℃，下限溫度—40±2℃。
塑料上電鍍層 熱循環(huán)試驗(yàn) GB/T 12610
本標(biāo)準(zhǔn)參照采用國際標(biāo)準(zhǔn)ISO4525——1985《金屬覆蓋層——塑料上鎳+鉻電鍍層》8.6和10.4《熱循環(huán)試驗(yàn)》。
1主題內(nèi)容與適用范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了塑料基體上電鍍層的熱循環(huán)試驗(yàn)方法和試驗(yàn)設(shè)備。適用于評價(jià)塑料上電鍍層的抗溫變化能力，其試驗(yàn)結(jié)果表示電鍍件的鍍層與基體的結(jié)合強(qiáng)度。
2 方法原理概要由于塑料基體和金屬鍍層和熱膨脹系數(shù)不同，在溫度變化時(shí)，它們之間的界面上會產(chǎn)生一種應(yīng)力。在溫度高、低反復(fù)多次變化 時(shí)，界面上的總應(yīng)力將明顯增加；當(dāng)局部區(qū)域應(yīng)力超過塑料與金屬層的結(jié)合強(qiáng)度時(shí)，便會產(chǎn)生起泡、起皺、裂紋或脫落等。本標(biāo)準(zhǔn)采用了高、低溫循環(huán)變化的試驗(yàn)程序，觀察試驗(yàn)后鍍件表面出現(xiàn)的缺陷來評價(jià)電鍍層與塑料基體的結(jié)合能力。
3試驗(yàn)設(shè)備 3.1電熱干燥箱——控溫范圍大于75℃，控溫精度±2℃。 3.2低溫箱——控溫溫度低于—40℃，控溫精度±2℃。
4試樣 4.1試樣經(jīng)電鍍后，在常溫下放置24h以上才能進(jìn)行試驗(yàn)。 4.2每種試驗(yàn)的試樣一般不應(yīng)少于3件。試樣應(yīng)是完整的成型件，不允許從大型鍍件上切割一部分進(jìn)行試驗(yàn)。大型件可用與其相同的基體材料的小零件在同一條件下電鍍后作替代件進(jìn)行試驗(yàn)。 4.3試驗(yàn)前試樣要充分洗凈，清洗中不能使用會侵蝕試樣的溶劑和磨料。 4.4試樣放在試驗(yàn)箱內(nèi)，不得接觸箱體，也不能相互接觸。
5 試驗(yàn) 5.1熱循環(huán)試驗(yàn)條件分類 A循環(huán)：上限溫度75±2℃，下限溫度20±5℃； B循環(huán)：上限溫度75±2℃，下限溫度—20±2℃； C循環(huán)：上限溫度75±2℃，下限溫度—40±2℃。 5.2各類循環(huán)每個周期的試驗(yàn)程序 5.2.1A循環(huán) a.在溫度為75±2℃的干燥箱內(nèi)放置1h； b.在溫度為20±5℃的干凈環(huán)境中放置1h； 5.2.2B循環(huán) a.在溫度為—20±2℃的低溫箱內(nèi)放置1h； b.在溫度為20±5℃的干凈環(huán)境中放置1h； c.在溫度為75±2℃的干燥箱內(nèi)放置1h； d.在溫度為20±5℃的干凈環(huán)境中放置1h。 5.2.3C循環(huán) a.在溫度為—40±2℃的低溫箱內(nèi)放置1h； b.在溫度為20±5℃的干凈環(huán)境中放置1h； c.在溫度為75±2℃的干燥箱內(nèi)放置1h； d.在溫度為20±5℃的干凈環(huán)境中放置1h。 5.3熱循環(huán)試驗(yàn)類型及其周期數(shù)按產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定或需方要求確定。
6試驗(yàn)結(jié)果的評價(jià)試驗(yàn)結(jié)果的評價(jià)標(biāo)準(zhǔn)應(yīng)按產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)或需方要求規(guī)定。就一般試驗(yàn)要求而言，試驗(yàn)后試樣在室溫下放置1h以上，目視檢查試件主要表面出現(xiàn)的缺陷，如起泡、起皺、裂紋或脫落等。
7試驗(yàn)報(bào)告試驗(yàn)報(bào)告必須包括下列內(nèi)容： a.寫明采用本標(biāo)準(zhǔn)的試驗(yàn)方法； b.被試鍍層或產(chǎn)品的說明； c.試樣的形狀、尺寸、面積和表面狀態(tài)； d.試驗(yàn)數(shù)量； e.試驗(yàn)循環(huán)類型和試驗(yàn)周期數(shù)； f.試驗(yàn)結(jié)果評價(jià)標(biāo)準(zhǔn)及試驗(yàn)結(jié)果。必要時(shí)，應(yīng)有每件試樣的結(jié)果、每組平行試樣的平均結(jié)果或試樣照片。
金屬覆蓋層 金和金合金電鍍層的試驗(yàn)方法
(一) 鍍層厚度測定 GB/T12305.1
1主題內(nèi)容與適用范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了金和金合金鍍層厚度的測定方法。適用于工程、裝飾、防護(hù)用金和金合金電鍍層厚度的測定。
2引用標(biāo)準(zhǔn) GB6463金屬和其他無機(jī)覆蓋層 厚度測量方法評述 GB4677.6金屬和氧化物覆蓋層厚度測量方法 截面金相法 GB4955金屬覆蓋層 陽極溶解庫侖測量法 GB4677．8印制板鍍涂覆層厚度測量方法 β反向散射法 GB l1378金屬覆蓋層厚度測量 輪廓尺寸測量方法 GB12305．
4金屬覆蓋層 金和金合金電鍍層的試驗(yàn)方法 第四部分 金含量的測定 3概述 如果需要一個仲裁的方法，經(jīng)供需雙方協(xié)商，可從方法4．1—4．8中選擇。這個方法的選擇應(yīng)考慮到 預(yù)定鍍層的厚度，零件形狀，零件尺寸，鍍層材料及基體材料等諸因素，使所選方法能夠提供最可靠的測定結(jié)果。 有些方法需要鍍層的密度值，則應(yīng)該用金或金合金鍍層的密度值。如不知道金合金鍍層的真實(shí)密度值，可用一適當(dāng)?shù)乃阈g(shù)計(jì)算值。例如：含6O％金與40％銀的合金鍍層的計(jì)算密度(g／cm3)為：14.5 在其它情況下，可采用19．3g／cm3。 庫侖儀法、x射線光譜法、β反向散射法、稱量法和化學(xué)分析法都需要鍍層的密度值。如果密度值是計(jì)算的或假設(shè)的，則不能達(dá)到預(yù)期的準(zhǔn)確度。 專門鍍金液的生產(chǎn)者一般可以估計(jì)從鍍液中所獲得的金鍍層的密度，但由于操作條件的差別，如：電解液的老化，槽液維護(hù)不好或鍍液中混有有機(jī)雜質(zhì)等都可能使鍍層的密度發(fā)生變化。
(二) 環(huán)境試驗(yàn) GB/T12305. 2
1主題內(nèi)容與適用范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了金和金合金鍍層的環(huán)境試驗(yàn)方法。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于工程、裝飾及防護(hù)用的金和金合金鍍層的模擬環(huán)境試驗(yàn)。
2引用標(biāo)準(zhǔn) GB2423．19電工電于產(chǎn)品基本環(huán)境試驗(yàn)規(guī)程 觸點(diǎn)和連接件的二氧化硫試驗(yàn) GB4623.9 印制板鍍層孔隙率電圖像測試方法 GB12305．3金屬覆蓋層 金和金合金鍍層的試驗(yàn)方法 第三部分 孔隙率的電圖像試驗(yàn)
3概述 本標(biāo)準(zhǔn)制定了三項(xiàng)試驗(yàn)。其中兩項(xiàng)試驗(yàn)在含有二氧化硫的氣氛中進(jìn)行，一項(xiàng)在含有硝酸蒸汽的氣氛中進(jìn)行。 試驗(yàn)結(jié)果與金鍍層不連續(xù)處暴露出的金屬的性質(zhì)有關(guān)。 各種試驗(yàn)方法對鍍層的作用取決于鍍層本身的性質(zhì)及其合金元素的含量。在選擇試驗(yàn)方法時(shí)應(yīng)選擇能清晰地暴露出基體金屬或底層金屬的方法。對普通用途的鍍層而言，底鍍層的厚度應(yīng)能足以保護(hù)基體免受腐蝕，不必考慮進(jìn)行穿透底鍍層金屬的試驗(yàn)，在特殊使用條件下可經(jīng)雙方協(xié)商進(jìn)行特殊試驗(yàn)。 用GB123O5．3所述的電圖像試驗(yàn)中的任一種方法，可以直接顯示出鍍層的孔隙率。但為使顯示孔隙的部位產(chǎn)生的腐蝕產(chǎn)物與使用條件下產(chǎn)生的腐蝕產(chǎn)物更為類似，通常可將樣品直接暴露在含有污染氣體或蒸汽的潮濕大氣中，使這些氣體通過金層的孔隙與底鍍層或基體金屬發(fā)生反應(yīng)。這種方法更適于尺寸小于 1O0mm×100mm的形狀復(fù)雜的零件。試驗(yàn)前應(yīng)將樣品在1，1，1-三氯乙烷蒸氣或其它適當(dāng)?shù)娜軇┲谐停㈠儗由蟿潅牟课换蚧w金屬上未鍍的部位保護(hù)起來。 3．1工程應(yīng)用 工程用金和金合金鍍層應(yīng)具有接觸電阻低、可焊性好和對表面通過大電流的穩(wěn)定性，并且能在貯存或使用中保持這種性能。 試驗(yàn)過程中產(chǎn)生的腐蝕產(chǎn)物的性質(zhì)與實(shí)際使用環(huán)境中所形成的腐蝕產(chǎn)物的性質(zhì)是不同的。如果事先未得到試驗(yàn)結(jié)果與使用情況的相關(guān)性，就不用這些試驗(yàn)來評價(jià)電接觸性能。
(三) 孔隙率的電圖像試驗(yàn) GB12305.3
1主題內(nèi)容與適用范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了金和金合金鍍層的孔隙率的測定方法。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于工程、裝飾和防護(hù)用金和金合金鍍層孔隙率的測定。
2引用標(biāo)準(zhǔn) GB4677．9印制板鍍層孔隙率電圖像測試方法
3測定方法 3．1硫化鎘試紙?jiān)囼?yàn) 3．1．1適用范圍 本方法應(yīng)用于檢查銅基體上的鍍金層。 3．1．2材料 用于本試驗(yàn)的試劑，一律使用分析純的試劑、蒸餾水或去離子水。 3．1．2．1硫化鎘試紙 配制 l0％氯化鎘溶液，將用蒸餾水充分潤濕的濾紙或復(fù)印紙，浸入新配制的溶液中，10 min后取出，用吸水紙吸去紙上多余的溶液。 在紙未完全干燥之前，浸入新配制的含硫化鈉5Og／L的溶液中30s。這時(shí)，紙變成均勻的黃色(表明硫化鎘沉積完全)。將試紙?jiān)诹魉星逑醇s 1 h，而后再懸掛晾干。 3．1．2．2潤濕吸水紙 將一塊高質(zhì)量的濾紙浸入水中并適當(dāng)晾干，使其可產(chǎn)生清晰的電圖像。 3．1．3操作步驟 輕輕地刷去鍍層上疏松的塵土和臟物，然后在無水乙醇中或 1，1，-三氯乙烷蒸汽或其它適當(dāng)?shù)娜軇┲腥ビ汀?在電鍍樣品上放一片硫化鎘試紙(3．1．2．1)，將試樣作陽極在試紙上放一片潤濕的吸水紙 (3．1．2．2)，隨后在上面放一塊高純度的清潔的鋁或不銹鋼板(作陰極)。用加壓裝置，在1．4一1．7MPa的壓力間加壓，使硫化鎘試紙和樣品受力均勻。在加壓下，由一個不超過12v的電源供給一個平穩(wěn)無波紋的直流電流，初始陽極電流密度為7．5 mA／cm2，通電時(shí)間30s。
(四) 金含量的測定 GB12305.4
本標(biāo)準(zhǔn)等效采用國際標(biāo)準(zhǔn)ISO4524／4一1985《金屬覆蓋層 金和金合金電鍍層的試驗(yàn)方法 第四部分 金含量的測定》。
1主題內(nèi)容與適用范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了金和金合金鍍層中金含量的測定方法。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于工程、裝飾及防護(hù)用金和金合金電鍍層中金含量的測定。
2引用標(biāo)準(zhǔn) GB123O5．1金屬覆蓋層 金和金合金電鍍層試驗(yàn)方法 第一部分 鍍層厚度測量
3概述 某些金合金鍍層的金含量小于90％，當(dāng)用硝酸將鍍層與基體金屬分離時(shí)，有些合金元素可能溶解在硝酸溶液中，致使其測量結(jié)果偏高。這種情況下，應(yīng)該用機(jī)械法使金鍍層從基體上剝離下來。 為了得到準(zhǔn)確的測量結(jié)果，需要提高稱量的精確度，并需要較大的試樣。如有必要，還要制備特別厚的電鍍試樣。但沒有必要限制被測工作的面積，樣品可以是由一個鍍槽中得到一個或多個小零件，也可以是從大工件上切下的一塊大的電鍍面積(包括側(cè)面和邊緣)。 如果供需雙方商定金的含量應(yīng)大于99％，那么為保證金的純度雙方應(yīng)簽定專門的協(xié)議。這個協(xié)議應(yīng)包括用特厚鍍層進(jìn)行微量雜質(zhì)的光譜分析，或者控制鍍金溶液，確保金屬雜質(zhì)的污染不超過規(guī)定。在金含量小于99％時(shí)，應(yīng)采用本標(biāo)準(zhǔn)中4和5的測定方法。其它方法例如電子探針法，也可以采用。 用適當(dāng)?shù)姆椒◤脑嚇由先∠乱黄蚨嗥嚻缬斜匾蓪⒁粋€或多個完整的工件切成適當(dāng)?shù)某叽纾M量采用機(jī)械方法，除去試樣上的基體金屬。將試樣置于小燒杯中，在溫度約20℃下加入一定量的稀硝酸(1體積濃硝酸加3體積蒸餾水)，使基體金屬和底層全部溶解。但在合金鍍層的情況下，酸會溶解一些合金元素，應(yīng)特別注意的是，當(dāng)基體金屬含錫時(shí)，四價(jià)錫的氫氧化物緊緊地粘附在金鍍層上，為防 止生成四價(jià)錫的氫氧化物，可向稀硝酸中加入2％(v/v)的氫氟酸或5％(v／v)的氟硼酸，傾出溶液。將留下的金鍍層用蒸餾水清洗數(shù)次，并在100℃左右干燥。
4火試金法 可用5mg的金鍍層進(jìn)行測定。為得到較高的準(zhǔn)確度，應(yīng)盡可能使用較大量的金鍍層進(jìn)行測定。
金屬覆蓋層 金和金合金電鍍層的試驗(yàn)方法
(五) 結(jié)合強(qiáng)度試驗(yàn) GB12305.5
1主題內(nèi)容與適用范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了金和金合金鍍層的結(jié)合強(qiáng)度的試驗(yàn)方法。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于工程、裝飾、防護(hù)用金和金合金鍍層結(jié)合強(qiáng)度的測定。
2 引用標(biāo)準(zhǔn) GB5270 金屬基體亡的金屬覆蓋層 附著強(qiáng)度試驗(yàn)方法
3 打磨試驗(yàn) 在工作表面上選擇一塊不大于6cm2的面積，用適當(dāng)?shù)哪Σ凉ぞ呖焖倨椒€(wěn)地摩擦15s。存摩擦金屬鍍層時(shí)，每個行程均需施加足夠的壓力。為避免劃傷鍍層，施加的壓力不能過大。試驗(yàn)后在放大8倍或4倍的照明觀察系統(tǒng)下，檢查樣品的鍍層有無起泡的跡象。 注：一種帶手柄的牙科瑪瑙刮鏟可以用作摩擦工具。這種工具手柄長60—10mm，瑪淄刮鏟長30—50mm，寬5一10mm，將刀刃磨成徽帶圓弧狀即可使用。
4 膠帶試驗(yàn) 把一把直尺和一個磨尖的淬過火的鋼針，在試驗(yàn)表面上劃一個邊長為2 mm的正方形格子，劃線時(shí)所用的壓力，應(yīng)能一次切通鍍層到達(dá)基體金屬。 然后將粘結(jié)強(qiáng)度為一定數(shù)值的(可用普通膠帶紙)纖維粘結(jié)帶粘合到試驗(yàn)面上，用手指壓緊按平，小心地排除空氣。10s后，在樣品表面的垂直方向上迅速拉起膠帶，在放大8倍或4倍的照明觀察系統(tǒng)下，檢查鍍層是否有剝離現(xiàn)象。 注：本試驗(yàn)只能粗略地檢查結(jié)合強(qiáng)度的缺陷。
5 熱震試驗(yàn) 把試樣放入200—300℃的烘箱中約30 min，取出后浸入室溫下的水中驟冷。在放大8倍或4倍的照明觀察系統(tǒng)下，檢查鍍層有無起泡或分離的跡象。
(六) 殘留鹽的測定 GB/T 12305.6
1主題內(nèi)容與適用范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了工程、裝飾和防護(hù)用金和金合金電鍍層免受殘留鹽污染的試驗(yàn)方法。適用于金屬件；不適用于復(fù)合材料件，如既有塑料又有鍍層金屬的零件。
2原理將零件在已知電導(dǎo)率的水中煮沸至規(guī)定時(shí)間，測量由析出殘留鹽和其他導(dǎo)電雜質(zhì)產(chǎn)生的電導(dǎo)率的增加值。
3試劑水：在201時(shí)電導(dǎo)率不大于100μS/m。
4儀器所有使用的玻璃儀器應(yīng)由硼硅酸鹽玻璃制作，必須達(dá)到5.2規(guī)定的清潔度的要求，并為本試驗(yàn)單獨(dú)保存。 4.1圓底燒瓶：容量為250mL，并安裝水回流冷凝管。 4.2燒杯：尺寸要適于被測零件，標(biāo)有100mL的刻度，配有減少水的過度蒸發(fā)損失的適當(dāng)裝置，如冷卻水罩。 4.3電導(dǎo)率儀
5試驗(yàn)方法 5.1試樣取一個或多個全由鍍層金屬覆蓋的零件，其總表面積約為30平方厘米，根據(jù)其尺寸大小（見5.3)按5.3.1或5.3.2的規(guī)定進(jìn)行試驗(yàn)。務(wù)必避免試樣被意外污染，在檢查中要帶干凈的手套接觸零件。 5.2儀器清潔度的檢查測定前將100ml水加入試驗(yàn)容器中，然后在規(guī)定的試驗(yàn)條件下緩緩煮沸10分鐘。將水冷卻到20±1℃，用電導(dǎo)儀測量其電導(dǎo)率。如果測量值超過100μS/m,則另用100ml水再測定。若測量值再超過100μS/m，則的換用新的容器再試驗(yàn)。合格的玻璃儀器要為本試驗(yàn)單獨(dú)保存。
金屬覆蓋層 工程用金和金合金電鍍層 GB12304
本標(biāo)準(zhǔn)等效采用國際標(biāo)準(zhǔn)ISO4523—1985《金屬覆蓋層 工程用金和金合金電鍍層》。
1主題內(nèi)容與適用范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了金屬、或非金屬材料上的金和金合金電鍍層（單層、雙層或多層）的技術(shù)條件。本標(biāo)準(zhǔn)適用于電氣、電子和其它工程用金和金合金電鍍層。本標(biāo)準(zhǔn)不適用于螺紋上的鍍層，也不適用于未成形的薄片或帶狀材料上的鍍層。
2 引用標(biāo)準(zhǔn) GB3138 電鍍常用名詞術(shù)語 GB1238金屬鍍層及化學(xué)處理表示方法 GB4677.6金屬和氧化物覆蓋層厚度測試方法 截面金相法 GB6463 金屬和其它無機(jī)覆蓋層 厚度測量方法評述 GB4677.8印制板鍍涂層厚度測量方法 β反向散射法 GB2423.28電工電子產(chǎn)品基本環(huán)境試驗(yàn)規(guī)程 試驗(yàn)T 錫焊試驗(yàn)法 GB9790金屬和有關(guān)覆蓋層 維氏和努氏顯微硬度試驗(yàn)法 GB4955金屬覆蓋層 陽極溶解庫侖測量法 GB12305.1金屬覆蓋層 金和金合金電鍍層的試驗(yàn)方法 第一部分 鍍層厚度測定 GB12305.2金屬覆蓋層 金和金合金電鍍層的試驗(yàn)方法 第二部分 環(huán)境試驗(yàn) GB12305.3金屬覆蓋層 金和金合金電鍍層的試驗(yàn)方法 第三部分 孔隙率的電圖像試驗(yàn) GB12305.4金屬覆蓋層 金和金合金電鍍層的試驗(yàn)方法 第四部分 金含量的測定 GB12305.5金屬覆蓋層 金和金合金電鍍層的試驗(yàn)方法 第五部分 結(jié)合強(qiáng)度試驗(yàn)
3術(shù)語 3.1主要表面指零件上電鍍前后的規(guī)定表面,該表面對于零件的功能和(或)外觀是極為重要的。 3.2金或金合金鍍層金或金合金鍍層是指金含量不低于58.5%的金或金合金電沉積層。 3.3雙層金或金合金鍍層由兩層不同金含量的鍍層所組成的金或金合金鍍層，每層中的金含量不得低于58.5%。 3.4多層金或金合金鍍層由兩層以上的不同含金量鍍層組成的金或金合金鍍層，其中任何一層的金含量均不得低于58.5%。
4需方向供方提供的資料 4.1基本資料 a.本標(biāo)準(zhǔn)編號為GB12304； b.所需鍍層的表示方法； c.指出被鍍零件的主要表面。例如在圖上或工件上標(biāo)注適當(dāng)?shù)臉?biāo)記； d.表面狀況； e.采用和結(jié)合強(qiáng)度試驗(yàn)方法； f.采用的抽樣方法。 4.2補(bǔ)充資料下列資料如果需要，應(yīng)由需方提供； a.鍍層中金的最低含量及對合金元素的說明； b. 基體材料的性質(zhì)，表面狀況和粗糙度； c.鍍前消除應(yīng)力和鍍后消除氫脆的技術(shù)要求； d.對底鍍層的特殊要求； e.對雙層或多層鍍層中每層金含量和厚度的技術(shù)要求； f.對鍍層耐蝕性和孔隙率的技術(shù)要求及其測試方法； g.鍍層的顯微硬度及其測試方法； h.鍍層的電性能及其測試方法 ； i.對可焊性的技術(shù)要求及其測試方法； j.鍍層的耐磨性及其測試方法； k.鍍層的延展性及其測試方法； l.對消除成品沾污的要求； m.若厚度測試需要進(jìn)行密度校正，則需提供金鍍層的密度值。
5 基體材料本標(biāo)準(zhǔn)沒有規(guī)定對電鍍前基體材料的狀態(tài)、表面粗糙度的技術(shù)要求，但鍍層的表面粗糙度與基體材料的表面粗糙度有關(guān)，對基體材料表面粗糙度的要求，由供需雙方商定。
金屬覆蓋層 銀和銀合金電鍍層試驗(yàn)方法
(一)鍍層厚度的測定 GB 12307.1
1主題內(nèi)容與適用范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電鍍?nèi)芤旱幕魻柌墼囼?yàn)方法。適用于測定電鍍?nèi)芤旱年帢O電流密度范圍、分散能力及整平等性能，亦適用于研究電鍍?nèi)芤航M分及工藝條件的改變對鍍層質(zhì)量的影響。
2術(shù)語霍爾槽：非導(dǎo)電材料的梯形鍍槽，其中各電極排布能夠觀察寬廣電流密度范圍內(nèi)的陰極或陽極效應(yīng)。
3方法原理利用霍爾槽中陰極各部位與陽極距離不同，相應(yīng)的電流密度也不相同的原理測試電鍍?nèi)芤旱男阅芗坝绊戝儗淤|(zhì)量的因素。
4試驗(yàn)裝置、儀器及設(shè)備 4.1試驗(yàn)裝置霍爾槽試驗(yàn)裝置如圖1所示。 4.2試驗(yàn)儀器及設(shè)備 4.2.1霍爾槽霍爾槽是一個小型梯形電鍍槽。槽體材料一般選用耐酸、堿的絕緣材料制作。霍爾槽的主要特征是陰、陽極之間不平行，保持一定的角度。根據(jù)盛裝溶液的容積可分為250ml、500ml、1000ml三種霍爾槽，最常用的是250ml、1000ml 兩種。在實(shí)際使用中，市售的一種霍爾槽，在d邊安裝加熱管，c邊陰極旁開有一排空氣攪拌孔，其使用較廣泛，還有一種改良型霍爾槽，其形狀尺寸與普通霍爾槽相同，只是在槽兩平行壁中的長壁鉆6孔，短壁鉆4孔，孔的位置與尺寸無嚴(yán)格要求。該槽的優(yōu)點(diǎn)是置于能加溫（或冷卻）的另一較大的裝有待測鍍液的容器中，從而獲得所需要的較穩(wěn)定的鍍液成分和液溫。 4.2.2陽極陽極材料與生產(chǎn)中使用的相同，并符合電鍍陽極的國家標(biāo)準(zhǔn)，陽極形狀為平板狀，在容易鈍化陽極的鍍液中，可采用瓦楞狀或網(wǎng)狀，其幾何厚度不能超過5mm。 4.2.3陰極陰極材料應(yīng)根據(jù)試驗(yàn)情況選取，一般多選用0.2~1mm厚的黃銅板或鋼板，選用其他材料則應(yīng)對試驗(yàn)過程基本無影響，試片可根據(jù)試驗(yàn)?zāi)康倪M(jìn)行打磨、浸蝕或拋光，然后背面涂絕緣涂料，烘干。 4.2.4電源電源應(yīng)比較穩(wěn)定，最好采用直流恒電流電源。 4.2.5直流電流表量程：0~10A，0.5級或1級。在實(shí)際測試中，可采用具有加熱攪拌功能的成套霍爾槽試驗(yàn)裝置。
5試驗(yàn)條件的選擇 5.1鍍液為獲取正確的試驗(yàn)結(jié)果，試驗(yàn)鍍液應(yīng)具有代表性，在重復(fù)試驗(yàn) 時(shí)，每次試驗(yàn) 所取鍍液體積應(yīng)相同。當(dāng)使用不溶性陽極時(shí)，經(jīng)1~2次電鍍試驗(yàn)后應(yīng)更換新液。如用可溶性陽極則應(yīng)在4~5次試驗(yàn)后更換新液，在測試微量雜質(zhì)或添加劑的影響時(shí)，每槽溶液試驗(yàn) 次數(shù)還應(yīng)酌情減少。 5.2電流強(qiáng)度電流強(qiáng)度應(yīng)根據(jù)鍍液的性質(zhì)選擇。若鍍液允許的電流強(qiáng)度上限較大，則試驗(yàn)時(shí)的電流強(qiáng)度應(yīng)取大一點(diǎn)，但通常選取0.5~3A之間，某些鍍種如鍍鉻溶液可提高5~10A。試驗(yàn) 微量雜質(zhì)的影響時(shí)，可用0.5~1A。 5.3試驗(yàn)時(shí)間霍爾槽試驗(yàn)的時(shí)間應(yīng)根據(jù)試驗(yàn)?zāi)康膩泶_定，一般多選取5~10min。 5.4試驗(yàn)溫度霍爾槽試驗(yàn)溫度應(yīng)根據(jù)鍍液性質(zhì)和試驗(yàn)?zāi)康膩泶_定。
6試驗(yàn)步驟 6.1將待測溶液倒入霍爾槽中，貼b邊槽壁插入洗凈的陽極板。 6.2按圖1所示安裝接線，并按工藝條件，將鍍液恒溫。 6.3將符合電鍍前處理要求的陰極緊貼c邊槽壁帶電入槽，按鍍液的工藝條件，控制電流強(qiáng)度和電鍍時(shí)間、進(jìn)行電鍍。 6.4斷開電源，取出陰極試片洗凈、烘干。根據(jù)試驗(yàn)?zāi)康倪M(jìn)行結(jié)果處理。
(二)結(jié)合強(qiáng)度試驗(yàn) GB 12307.2
本標(biāo)準(zhǔn)等效采用國際標(biāo)準(zhǔn)ISO4522/2—1985《銀和銀合金電鍍層試驗(yàn)方法 第二部分 結(jié)合強(qiáng)度試驗(yàn)》。
1主要內(nèi)容與適用范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了銀和銀合金電鍍層結(jié)合強(qiáng)度的測定方法。適用于工程、裝飾和防護(hù)用銀和銀合金電鍍層結(jié)合強(qiáng)度的試驗(yàn)。
2 引用標(biāo)準(zhǔn) GB4956 金屬覆蓋層厚度測量方法 磁性法
3結(jié)合強(qiáng)度試驗(yàn) 3.1摩擦拋光試驗(yàn)在主要表面上選擇一塊不大于6平方厘米的面積用適當(dāng)?shù)哪Σ翏伖夤ぞ哐杆俣椒€(wěn)地摩擦15秒，施加的壓力應(yīng)在每一進(jìn)程中足以擦光金屬鍍層，但又不能大到削掉鍍層。在放大到8倍或4倍具有照明的觀察器下檢查鍍層是否起泡。 3.2滾筒拋光試驗(yàn)試樣放在對邊距約為250mm的六方形橡皮襯里拋光筒 內(nèi)，以大約25r/min 的轉(zhuǎn)速拋光40min.在放大8倍或4倍具有照明的觀察器下檢查鍍層是否起泡或剝離。 3.3剝離試驗(yàn)（電鍍層厚度為10微米或更厚者）在不高于一般焊接溫度下將尺寸約為10×70×0.5 mm的鍍錫鋼帶或黃銅帶平直地焊到銀電鍍層表面上，保證受焊縫長度約為15mm，焊料約含錫60%、鉛38%、銀2%，使用無腐蝕性焊劑，焊接溫度應(yīng)不使電鍍層起泡。然后對焊帶施加與試樣成直角足以拉開焊帶的力。在放大8倍或4倍具有照明的觀察器下檢查電鍍層是否分離。 3.4彎曲試驗(yàn)將試樣放在曲率半徑為4mm的固定芯軸彎曲試驗(yàn)機(jī)中（或用適當(dāng)?shù)姆椒ǎ瑥澢嚇拥?0°再回到原狀,反復(fù)彎曲不少于三次,在放大8倍或4倍具有照明的觀察器下檢查電鍍層是否分離。 3.5剪切試驗(yàn)用弓形鋸（1.25齒）/mm)鋸開試樣，鋸齒刃品向外推切，使鋸齒沖程能從基體金屬上推開電鍍層，用中扁銼銼平切邊，銼刀從基體金屬向電鍍層移動，在放大8倍或4倍具有照明的觀察器下檢查電鍍層是否從基體金屬上分離，和有無起泡，起層和剝離現(xiàn)象。 3.6鋼丸噴射試驗(yàn) 3.6.1概述本試驗(yàn)方法用以評價(jià)厚度為100~600微米之間鋼上銀電鍍層的結(jié)合強(qiáng)度。其試驗(yàn)結(jié)果只是定性的。該方法不破壞具有良好結(jié)合力鍍層的部件。 3.6.2試驗(yàn)設(shè)備 3.6.2.1噴丸設(shè)備一般壓縮空氣或離心式噴丸設(shè)備。 3.6.2.2鋼丸使用平均直徑為0.4mm和硬度不低于350HV30的球形鋼丸，由篩分測量其尺寸，并符合所規(guī)定的尺寸。
(三)殘留鹽的測定 GB/T 12307.3
1主要內(nèi)容與適用范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了工程、裝飾和防護(hù)用銀和銀合金電鍍層免受殘留鹽污染的試驗(yàn)方法。適用于金屬件；不適用于復(fù)合材料，如既有塑料又有鍍層金屬的零件。
2原理將零件在已知電導(dǎo)率的水中煮沸至規(guī)定時(shí)間，測量由析出殘留鹽和其他導(dǎo)電雜質(zhì)產(chǎn)生的電導(dǎo)率的增加值。
3試劑水：在20±1℃時(shí)電導(dǎo)率不大于100μS/ m。
4儀器所有使用的玻璃儀器應(yīng)由硼硅酸鹽制作，必須達(dá)到 5.2規(guī)定的清潔度的要求，并為本試驗(yàn)單獨(dú)保存。 4.1圓底燒瓶：容量為250ml，并安裝水回流凝管。 4.2燒杯：尺寸要適于被測零件，標(biāo)有100ml的刻度，配在減少水的過度蒸發(fā)損失的適當(dāng)裝置，如冷卻水罩。 4.3電導(dǎo)率儀
5試驗(yàn)方法 5.1試樣取一個或多個全由鍍層金屬覆蓋的零件，其總表面積約為30平方厘米，根據(jù)其尺寸大小（見5.3）按5.3.1或5.3.2無規(guī)定進(jìn)行試驗(yàn)。務(wù)必避免試樣被意外污染，要檢查中要還干凈的手套接觸零件。5.2儀器清潔度的檢查測定前將100ml水加入試驗(yàn)容器中，然后在規(guī)定的試驗(yàn)條件下緩緩煮沸10min.將水冷卻到20±1℃，用電導(dǎo)儀測量其電導(dǎo)率。如果測量值超過100μS/m，則另用100ml水再測定。若測量值再超過100μS/m,則換用新容器再試驗(yàn)。合格的玻璃儀器要為本試驗(yàn)單獨(dú)保存。 5.3測定 5.3.1橫截面寬度或直徑小于15mm及長度不大于40mm的試樣。檢查儀器清潔度后，將試樣放入圓底燒瓶中，加入100ml的水，水的電導(dǎo)率應(yīng)已在測量前迅速測量出。使水完全浸沒試片。在燒瓶上安裝回流冷凝管，緩緩煮沸10min.待水冷卻到20±1℃，用電導(dǎo)率儀測量其電導(dǎo)率。計(jì)算電導(dǎo)率的增值勤作為測量結(jié)果。 5.3.2橫截面寬度或直徑大于15mm及長度超過40mm的試樣。按5.3.1所述的方法進(jìn)行試驗(yàn)。將試樣放入已加水至100ml刻度的燒杯中。為防止測定過程中水的過分蒸發(fā)而損失，可采用冷卻水罩，必要時(shí)，可加更多的水以補(bǔ)充蒸發(fā)掉的水。
6測試報(bào)告測試報(bào)告至少應(yīng)包括下列內(nèi)容： a.對本標(biāo)準(zhǔn)的參照； b.測試試樣名稱或編號； c.測試試樣的總表面積； d.所用儀器的名稱或型號； e.測試中觀察到的異常現(xiàn)象； f.任何不同于本方法的說明； g.測試結(jié)果和表示方法； h.測試日期； i.操作者和測試實(shí)驗(yàn)室的名稱。
金屬覆蓋層 工程用銀和銀合金電鍍層 GB12306
本標(biāo)準(zhǔn)等效采用國際標(biāo)準(zhǔn)ISO4521一1985《金屬覆蓋層 工程用銀和銀合金電鍍層》。
1主題內(nèi)容與適用范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了工程用銀和銀合金電鍍層及其底鍍層的技術(shù)要求。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于電氣、電子和其他工程用金屬和非金屬材料上銀和銀合金電鍍層的要求，該鍍層可以進(jìn)行或不進(jìn)行鍍后的機(jī)械加工。 本標(biāo)準(zhǔn)不適用于螺紋緊固件上的鍍層或未經(jīng)加工的板材或帶材上的鍍層。
2引用標(biāo)準(zhǔn) GB3138電鍍常用名詞術(shù)語 GB1238金屬鍍層及化學(xué)處理表示方法 GB6462金屬和氧化覆蓋層橫斷面厚度顯微鏡測量方法 GB4955金屬覆蓋層厚度測量方法 陽極溶解庫侖測量法 GB9790金屬覆蓋層及其他有關(guān)覆蓋層維氏和努氏顯微硬度試驗(yàn) GB12307．1金屬覆蓋層 銀和銀合金電鍍層試驗(yàn)方法 第一部分 鍍層厚度的測定 GB123O7．2金屬覆蓋層 銀和銀合金電鍍層試驗(yàn)方法 第二部分 結(jié)合強(qiáng)度試驗(yàn) GB2423．28電上電子產(chǎn)品基本環(huán)境試驗(yàn)規(guī)程 試驗(yàn)T：錫焊試驗(yàn)方法 8術(shù)語 主要表面：指零件上電鍍前后的規(guī)定表面，該表面上的鍍層對于零件的外觀和(成)使用性能是極為重要的。 4需方向供方提供的資料 4．1必要時(shí)，需方應(yīng)向供方提供下列資料： a．本標(biāo)準(zhǔn)號(GB123O6) ; b．要求鍍層的表示方法(見8和11．2) c．主要表面應(yīng)在零件圖上注明和(或)提供樣件； d．外觀(見11．1) ； e．采用的結(jié)合強(qiáng)度試驗(yàn)方法(見l1．5)； f．采用的取樣方法(見7)。
金屬覆蓋層 低氫脆鎘鈦電鍍層 GB/T 13322
1主題內(nèi)容與適用范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了高強(qiáng)度鋼零件 低氫脆鍍鎘鈦的質(zhì)量檢驗(yàn)要求、檢驗(yàn)方法和鍍前檢驗(yàn)要求。適用于高強(qiáng)度鋼零件 低氫脆鍍鎘鈦的鍍前和鍍后質(zhì)量檢驗(yàn)。
2引用標(biāo)準(zhǔn) GB1238 金屬鍍層及化學(xué)處理表示方法 GB3138 電鍍常用名詞術(shù)語 GB4677.6金屬和氧化物覆蓋層厚度測試方法 截面金相法 GB4955 金屬覆蓋層厚度測量 陽極溶解庫侖方法 GB4956 磁性金屬基體上非磁性覆蓋層厚度測量 磁性方法 GB5270 金屬基體上金屬覆蓋層（電沉積層和化學(xué)沉積層）附著強(qiáng)度試驗(yàn)方法 GB6458 金屬覆蓋層 中性鹽霧試驗(yàn)（NSS試驗(yàn)） GB6463 金屬和其他無機(jī)覆蓋層 厚度測量方法評述 GB9791 鋅和鎘上鉻酸鹽轉(zhuǎn)化膜試驗(yàn)方法 GB12609 電沉積金屬覆蓋層和在關(guān)精飾計(jì)數(shù)抽樣檢查程序 GJB594金屬鍍覆層和化學(xué)覆蓋層選擇原則與厚度系列
3定義 3.1高強(qiáng)度鋼本標(biāo)準(zhǔn)將熱處理到抗拉強(qiáng)度 達(dá)大于等于1240MPa的鋼定義為高強(qiáng)度鋼。 3. 2主要表面指零件上電鍍前和電鍍后的規(guī)定表面，該表面上的鍍層對于零件的外觀和使用性能是起主要作用的。 3.3最小局部厚度指在主要表面上測到的局部厚度的最低值。
4資料 4.1必要資料需方向供方提供下列資料： a.本標(biāo)準(zhǔn)號（GB/T13322）； b.要求鍍層標(biāo)記； c.主要表面應(yīng)在零件圖上注明（或）提供樣件； d.表面外觀； e.采用的結(jié)合強(qiáng)度試驗(yàn)方法； f.采用有氫脆試驗(yàn)方法； g.采用的抽樣方法。 4.2補(bǔ)充資料如果需要，可由需方提供下列資料： a.基體金屬的性質(zhì)、表面狀態(tài)和粗糙度； b.電鍍前消除應(yīng)力和電鍍后消除氫脆的要求； c.對鍍層的特殊要求，包括厚度； d.對耐蝕性的要求及采用的試驗(yàn)方法。
5鍍層標(biāo)記鍍層標(biāo)記按GB1238中的規(guī)定。
6零件鍍前的驗(yàn)收要求 6.1基體金屬：本標(biāo)準(zhǔn)未規(guī)定基體金屬的鍍前表面狀態(tài)，對基體金屬的具體要求應(yīng)由供需雙方達(dá)成協(xié)議。 6.2零件在鍍前應(yīng)完成所有的機(jī)加工、成型、焊接工序。 6.3對原材料、熱處理、機(jī)加工、磁力探傷等工序的檢驗(yàn)。 6.4要求具有鍍前消除應(yīng)力的檢驗(yàn)印章，進(jìn)行電鍍的高強(qiáng)度鋼零件，為了減少產(chǎn)生氫脆破壞的危險(xiǎn)性，在電鍍前均應(yīng)進(jìn)行熱處理以消除零件表面的殘余應(yīng)力。零件熱處理的溫度和時(shí)間的選擇，應(yīng)保證最大限度地消除應(yīng)力而又不使零件的強(qiáng)度和硬度降低（一般溫度至少低于材料最低回火溫度30℃，時(shí)間4h以上）。
7對鍍層的質(zhì)量檢驗(yàn)要求 7.1外觀鍍層應(yīng)清潔完整、結(jié)晶均勻細(xì)致。未經(jīng)鉻酸鹽處理的鎘鈦鍍層的顏色為彩虹色或金黃色。在電鍍件的主要表面上，不應(yīng)有明顯的鍍層缺陷，如起泡、剝落、麻點(diǎn)、燒焦、海綿狀或局部無鍍層。但是，因鍍層的基體缺陷而引起的不可避免的鍍層缺陷除外，零件上無法避免工卡具接觸痕跡，其位置和面積的大小應(yīng)由供需雙方商定。必須需要時(shí)，應(yīng)由需方提供能說明外觀要求的樣品。 7.2厚度對鍍層厚度的要求應(yīng)由需方在給出的圖紙中按GB1238規(guī)定的方法標(biāo)出最小局部厚度要求。在圖紙中未作厚度規(guī)定的零件，其厚度可 參照GJB594中對鎘鍍層的厚度要求。 7.3結(jié)合強(qiáng)度結(jié)合強(qiáng)度按10.2條對鍍件進(jìn)行試驗(yàn)時(shí)，應(yīng)滿足GB5270對鍍件的要求，鍍層應(yīng)牢固地附著在基體金屬上，無起泡、剝落現(xiàn)象。 7.4耐蝕性如果需方規(guī)定鍍件必須經(jīng)過腐蝕試驗(yàn)，則鎘鈦鍍件就應(yīng)按GB6458中的中性鹽霧方法進(jìn)行試驗(yàn)。帶鉻酸鹽轉(zhuǎn)化膜鎘 鈦鍍層的耐蝕性，經(jīng)500h不出現(xiàn)紅銹腐蝕產(chǎn)物。鎘鈦鍍導(dǎo)層上的鉻酸鹽轉(zhuǎn)化膜類型與鎘鍍層相同，在GB9791中有詳細(xì)的規(guī)定和說明。 7.5鍍層鈦含量按照附錄A中的方法進(jìn)行鍍層鈦含量分析，鎘鈦鍍層內(nèi)的鈦含量應(yīng)在0.1%~0.7%之間。
電鍍?nèi)芤涸囼?yàn)方法 霍爾槽試驗(yàn) JB/T 7704.1
1主題內(nèi)容與適用范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電鍍?nèi)芤旱幕魻柌墼囼?yàn)方法。適用于測定電鍍?nèi)芤旱年帢O電流密度范圍、分散能力及整平等性能，亦適用于研究電鍍?nèi)芤航M分及工藝條件的改變對鍍層質(zhì)量的影響。
2術(shù)語霍爾槽：非導(dǎo)電材料的梯形鍍槽，其中各電極排布能夠觀察寬廣電流密度范圍內(nèi)的陰極或陽極效應(yīng)。
3方法原理利用霍爾槽中陰極各部位與陽極距離不同，相應(yīng)的電流密度也不相同的原理測試電鍍?nèi)芤旱男阅芗坝绊戝儗淤|(zhì)量的因素。
4試驗(yàn)裝置、儀器及設(shè)備 4.1試驗(yàn)裝置霍爾槽試驗(yàn)裝置如圖1所示。 4.2試驗(yàn)儀器及設(shè)備 4.2.1霍爾槽霍爾槽是一個小型梯形電鍍槽。槽體材料一般選用耐酸、堿的絕緣材料制作。霍爾槽的主要特征是陰、陽極之間不平行，保持一定的角度。根據(jù)盛裝溶液的容積可分為250ml、500ml、1000ml三種霍爾槽，最常用的是250ml、1000ml 兩種。在實(shí)際使用中，市售的一種霍爾槽，在d邊安裝加熱管，c邊陰極旁開有一排空氣攪拌孔，其使用較廣泛，還有一種改良型霍爾槽，其形狀尺寸與普通霍爾槽相同，只是在槽兩平行壁中的長壁鉆6孔，短壁鉆4孔，孔的位置與尺寸無嚴(yán)格要求。該槽的優(yōu)點(diǎn)是置于能加溫（或冷卻）的另一較大的裝有待測鍍液的容器中，從而獲得所需要的較穩(wěn)定的鍍液成分和液溫。 4.2.2陽極陽極材料與生產(chǎn)中使用的相同，并符合電鍍陽極的國家標(biāo)準(zhǔn)，陽極形狀為平板狀，在容易鈍化陽極的鍍液中，可采用瓦楞狀或網(wǎng)狀，其幾何厚度不能超過5mm。 4.2.3陰極陰極材料應(yīng)根據(jù)試驗(yàn)情況選取，一般多選用0.2~1mm厚的黃銅板或鋼板，選用其他材料則應(yīng)對試驗(yàn)過程基本無影響，試片可根據(jù)試驗(yàn)?zāi)康倪M(jìn)行打磨、浸蝕或拋光，然后背面涂絕緣涂料，烘干。 4.2.4電源電源應(yīng)比較穩(wěn)定，最好采用直流恒電流電源。 4.2.5直流電流表量程：0~10A，0.5級或1級。在實(shí)際測試中，可采用具有加熱攪拌功能的成套霍爾槽試驗(yàn)裝置。
5試驗(yàn)條件的選擇 5.1鍍液為獲取正確的試驗(yàn)結(jié)果，試驗(yàn)鍍液應(yīng)具有代表性，在重復(fù)試驗(yàn) 時(shí)，每次試驗(yàn) 所取鍍液體積應(yīng)相同。當(dāng)使用不溶性陽極時(shí)，經(jīng)1~2次電鍍試驗(yàn)后應(yīng)更換新液。如用可溶性陽極則應(yīng)在4~5次試驗(yàn)后更換新液，在測試微量雜質(zhì)或添加劑的影響時(shí)，每槽溶液試驗(yàn) 次數(shù)還應(yīng)酌情減少。 5.2電流強(qiáng)度電流強(qiáng)度應(yīng)根據(jù)鍍液的性質(zhì)選擇。若鍍液允許的電流強(qiáng)度上限較大，則試驗(yàn)時(shí)的電流強(qiáng)度應(yīng)取大一點(diǎn)，但通常選取0.5~3A之間，某些鍍種如鍍鉻溶液可提高5~10A。試驗(yàn) 微量雜質(zhì)的影響時(shí)，可用0.5~1A。 5.3試驗(yàn)時(shí)間霍爾槽試驗(yàn)的時(shí)間應(yīng)根據(jù)試驗(yàn)?zāi)康膩泶_定，一般多選取5~10min。 5.4試驗(yàn)溫度霍爾槽試驗(yàn)溫度應(yīng)根據(jù)鍍液性質(zhì)和試驗(yàn)?zāi)康膩泶_定。
6試驗(yàn)步驟 6.1將待測溶液倒入霍爾槽中，貼b邊槽壁插入洗凈的陽極板。 6.2按圖1所示安裝接線，并按工藝條件，將鍍液恒溫。 6.3將符合電鍍前處理要求的陰極緊貼c邊槽壁帶電入槽，按鍍液的工藝條件，控制電流強(qiáng)度和電鍍時(shí)間、進(jìn)行電鍍。 6.4斷開電源，取出陰極試片洗凈、烘干。根據(jù)試驗(yàn)?zāi)康倪M(jìn)行結(jié)果處理。
電鍍鋅和電鍍鎘層的鉻酸鹽轉(zhuǎn)化膜 GB 9800
本標(biāo)準(zhǔn)等效采用國際標(biāo)準(zhǔn)ISO4520-81《電鍍鋅和電鍍鎘層的鉻酸鹽轉(zhuǎn)化膜》。
1 主題內(nèi)容與適用范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了在電鍍鋅層和電鍍鎘層上用于防腐的鉻酸鹽轉(zhuǎn)化膜的具體要求。不適用于僅僅提供特殊顏色或?yàn)楦纳朴推岣街鴱?qiáng)度的表面精飾。
2 引用標(biāo)準(zhǔn) GB6458金屬覆蓋層 中性鹽霧試驗(yàn)（NSS試驗(yàn)） GB9791鋅和鎘上鉻酸鹽轉(zhuǎn)化膜試驗(yàn)方法 GB9792金屬材料上的轉(zhuǎn)化膜 單位面積上膜層質(zhì)量的測定 重量法
3成膜方法電鍍鋅或電鍍鎘后，通常用鉻酸鹽溶液浸漬處理，形成鉻酸鹽轉(zhuǎn)化膜。鉻酸鹽溶液呈酸性，含有六價(jià)鉻鹽和能改善膜層外觀、硬度及耐用蝕性能的其他 鹽類。鉻酸鹽轉(zhuǎn)化膜的顏色、類型及性能由溶液的成分決定，但敢也受pH值、溫度、處理時(shí)間及鍍層質(zhì)量的影響。電鍍鋅或電鍍鎘層在適當(dāng)?shù)娜芤褐行纬珊竦哪臀g性較高的彩虹色或深色調(diào)的鉻酸鹽轉(zhuǎn)化膜及薄的耐蝕性較低的光亮、清晰的膜層。電鍍工作者很難保證提供色調(diào)準(zhǔn)確的鉻酸鹽轉(zhuǎn)化 膜，如果需要準(zhǔn)確的色調(diào)，可將漂白的鉻酸鹽膜染色，但耐蝕性能只與漂白的轉(zhuǎn)化膜類似。彩虹和深色鉻酸鹽轉(zhuǎn)化膜進(jìn)行最后漂洗時(shí)，為防止六價(jià)鉻的分解，其熱水溫度不宜高于60℃，且漂洗時(shí)間應(yīng)盡可能短。為防止膜層脫水而開裂，干燥溫度不應(yīng)超過60℃。如果需要?dú)浯嗵幚恚瑧?yīng)在鉻酸鹽轉(zhuǎn)化膜形成之前進(jìn)行。
金屬覆蓋層 錫-鉛合金電鍍層 GB/T17461
1主題內(nèi)容與適用范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了含錫量范圍為50%~70%（質(zhì)量比）的錫-鉛合金電鍍層的技術(shù)要求和試驗(yàn)方法（見10.3）。本標(biāo)準(zhǔn)適用于電子、電氣制品及其他金屬制品上防止腐蝕和改善焊接性能的錫-鉛合金電鍍層。也適用于其他成分的錫-鉛合金電鍍層，但使用時(shí)應(yīng)注意這些鍍層的性能可能與上述合金成分范圍的錫-鉛合金鍍層不同。本標(biāo)準(zhǔn)中的分類方法明確表示了基體金屬的類別和一定含錫量范圍的鍍層成分，以及對熱熔層和光亮沉積層的規(guī)定。本標(biāo)準(zhǔn)不適用于： a)螺紋件上的錫-鉛合金鍍層； b)軸承上的錫-鉛合金鍍層； c)未加工成型的板材或線材上的錫-鉛合金鍍層，或由它們加工成型的零件上的錫-鉛合金鍍層； d抗拉強(qiáng)度大于1 000MPa（或相應(yīng)硬度）鋼上的錫-鉛合金鍍層，因?yàn)檫@種鋼經(jīng)電鍍后易產(chǎn)生氫脆
2引用標(biāo)準(zhǔn) 下列標(biāo)準(zhǔn)所包含的條文，通過在本標(biāo)準(zhǔn)中引用而構(gòu)成為本標(biāo)準(zhǔn)的條文。本標(biāo)準(zhǔn)出版時(shí)，所示版本均為有效。所有標(biāo)準(zhǔn)都會被修訂，使用本標(biāo)準(zhǔn)的各方應(yīng)探討使用下列標(biāo)準(zhǔn)最新版本的可能性。 (GB／T2423．28—1982電子電工產(chǎn)品基本環(huán)境試驗(yàn)規(guī)程 試驗(yàn)T：錫焊試驗(yàn)方法(eqv IEC68-2-20：1979) GB／T4955—1997金屬覆蓋層 覆蓋層厚度測量 陽極溶解庫侖法idtISO2177：1985) GB／T5270—1985金屬基體上的金屬覆蓋層(電沉積層和化學(xué)沉積層)附著強(qiáng)度試驗(yàn)方法(eqv ISO2819：198O) GB／T5931一1986輕工產(chǎn)品金屬鍍層和化學(xué)處理層的厚度測試方法 β射線反向散射法 (idt ISO3543：1981) GB/T6462—1986金屬和氧化物覆蓋層 橫斷面厚度顯微鏡測量方法(eqvISO1463：1982) GB／T9789—1988金屬和其他非有機(jī)覆蓋層 通常凝露條件下的二氧化疏腐蝕試驗(yàn)(eqv ISO6988：1985) GB／T l0125一1997人造氣氛中的腐蝕試驗(yàn) 鹽霧試驗(yàn)(eqv ISO9227：1990)
金屬覆蓋層 錫-鎳合金電鍍層 GB/T17462
1主題內(nèi)容與適用范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了由約65%（質(zhì)量比）錫和30%（質(zhì)量比）的鎳所組成的金屬間化合物錫-鎳合金電鍍層的技術(shù)要求和試驗(yàn)方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于鋼鐵及其他金屬制品上的錫-鎳合金電鍍層．該電鍍層在不同的使用條件下能防止基體金屬腐蝕。 本標(biāo)準(zhǔn)不適用于 a)螺紋件上的錫鎳合金鍍層； b)末加工成型的板材、帶材或線材上的錫-鎳合金鍍層，或由它們加工成型的零件上的錫-鎳合金鍍層； c)彈簧圈上的錫-鎳合金鍍層； d)抗拉強(qiáng)度大丁1000MPa(或相應(yīng)硬度)鋼上的錫-鎳合金鍍層，因?yàn)檫@種鋼經(jīng)電鍍后易產(chǎn)生氫脆(見8．2)； e)主要用作改變零件表面色調(diào)，賦予零件裝飾性外觀的錫-鎳合金薄表面鍍層。
2引用標(biāo)準(zhǔn) 下列標(biāo)準(zhǔn)所包含的條文，通過在本標(biāo)準(zhǔn)中引用而構(gòu)成為本標(biāo)準(zhǔn)的條文。本標(biāo)準(zhǔn)出版時(shí)，所示版本均為有效。所有標(biāo)準(zhǔn)都會被修訂，使用本標(biāo)準(zhǔn)的各方應(yīng)探討使用下列標(biāo)準(zhǔn)最新版本的可能性。 GB／T4955—1997金屬覆蓋層 覆蓋層厚度測量 陽極溶解庫侖法(idt ISO2177：1985) GB／T5270一1985金屬基體上的金屬覆蓋層(電沉積層和化學(xué)沉積層)附著強(qiáng)度試驗(yàn)方法(eqv ISO2819：198O) GB／T 5931一1986 輕工產(chǎn)品金屬鍍層和化學(xué)處理層的厚度測試方法 β射線反向散射法(idt ISO3543：198t) GB／T6462一1986金屬和氧化物覆蓋層 橫斷面厚度顯微鏡測量力法(eqvISO1463：1982) GB／T9789一1988金屬和其他非有機(jī)覆蓋層 通常凝露條件下的二氧化硫腐蝕試驗(yàn) (eqv ISO6988：1985) GB／T9798 -1997金屬覆蓋層 鎳電沉積層(eqv ISO1658：1988) GB／T12334—1990金屬和其他無機(jī)覆蓋層 關(guān)于厚度測量的定義和—般規(guī)則 (eqv ISO2O64：l99O) GB／T12609一199O電沉積金屬覆蓋層和有關(guān)精飾計(jì)數(shù)抽樣檢查程序(eqv IS04519：1980) GB／T 16921-1997金屬覆蓋層 厚度測量 X射線光譜方法(eqv ISO3497：1990)
電鍍?nèi)芤涸囼?yàn)方法 覆蓋能力試驗(yàn) JB/T7704.2
1主題內(nèi)容與適用范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電鍍?nèi)芤焊采w能力的試驗(yàn)方法。適用于各類電鍍?nèi)芤骸?/span>
2術(shù)語 覆蓋能力；鍍液在特定的電鍍條件下，在陰極表面凹處或深孔處沉積金屬的能力。
3方法原理 根據(jù)電鍍電流分布原理，人為地制造出具有深凹和外形遮閉部位或內(nèi)孔的陰極，并采取適當(dāng)?shù)膽覓旆绞皆诖郎y鍍液中進(jìn)行電鍍。由測量的鍍層覆蓋的面積或鍍?nèi)肷疃龋u定鍍液的覆蓋能力。 不同的試驗(yàn)方法，所得到的結(jié)果不相同。若要比較不同鍍液或工藝條件的覆蓋能力，則必須采用相同的方法，在相同的條件下進(jìn)行試驗(yàn)。
4試驗(yàn)方法 4．1直角陰極法 本方法適用于測定覆蓋能力較差的電鍍?nèi)芤骸?4．1．1試驗(yàn)儀器及設(shè)備 a. 電源:直流電源，最好采用恒電流電源; b．鍍槽：選擇適當(dāng)尺寸和體積的矩形槽； C．陽極；符合國家標(biāo)準(zhǔn)的適當(dāng)面積的陽極材料； d．陰極：用薄鋼片或銅片，按圖 I所示制成直角陰極，并將其背面絕緣。
電鍍?nèi)芤涸囼?yàn)方法 陰極電流效率試驗(yàn) JB/T7704.3
1主題內(nèi)容與適用范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電鍍?nèi)芤宏帢O電流效率的測定方法。本標(biāo)準(zhǔn)適于各類電鍍?nèi)芤骸?/span>
2術(shù)語 2．1陰極電流效率 根據(jù)法拉第定律，陰極上通過單位電量時(shí)，沉積出的鍛層的實(shí)際質(zhì)量與電化當(dāng)量之比。通常以百分比表示。 2．2庫侖計(jì) 依據(jù)法拉弟定律，借助產(chǎn)生的電化學(xué)作用來測定電量的電解池。
3方法原理 將待測電鍍?nèi)芤旱腻儾叟c一銅庫侖計(jì)串聯(lián)進(jìn)行電鍍后，先精確稱量由于電極反應(yīng)在陰極上實(shí)際析出物質(zhì)的質(zhì)量，根據(jù)法拉弟定律，利用重量庫侖計(jì)計(jì)算出通過電極的電量后，再計(jì)算出鍍槽中待測溶液陰極電流效率。本方法使用的重量庫侖計(jì)為銅庫侖計(jì)。
4試驗(yàn)裝置、儀器與設(shè)備 4．1銅庫侖計(jì) 4．1．1試驗(yàn)裝置 銅庫侖計(jì)通常使用玻璃容器作鍍槽，其中放入三個極板．即容器內(nèi)兩側(cè)分別置入高純銅板或電解銅板作為陽極。中間放入銅片作為陰極。
電鍍?nèi)芤涸囼?yàn)方法 分散能力試驗(yàn) JB/T7704.4
1主題內(nèi)容與適用范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電鍍?nèi)芤悍稚⒛芰Φ脑囼?yàn)方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于各類電鍍?nèi)芤骸?/span>
2術(shù)語 2．1分散能力 在特定條件下，鍍液使電極(通常是陰極)上鍍層分布比初次電流分布更為均勻的能力。 2．2不溶性陽極(惰性陽極) 在電解的工藝條件下，在電解液中不產(chǎn)生陽極溶解反應(yīng)的陽極。 2．3哈林槽 非導(dǎo)電材料的矩形鍍槽。其中主要電極和輔助電極合適排布以使能估計(jì)分散能力或電極極化程度及兩電極間的電勢。 2．4海綿狀鍍層 與基體材料結(jié)合不牢固的疏松多孔的海綿狀沉積物。
3試驗(yàn)方法 3．1遠(yuǎn)近陰極法 3．1．1方法原理 遠(yuǎn)近陰極法測分散能力多在哈林槽中進(jìn)行。將兩塊面積相同的陰極放在距陽極不同距離的位置(兩距離成簡單整數(shù)比)，電鍍?nèi)舾蓵r(shí)間后取出陰極試片，稱取遠(yuǎn)、近兩個陰極上鍍層的重量，按式(l）計(jì)算分散能力：
電鍍?nèi)芤涸囼?yàn)方法 整平性試驗(yàn) JB/T7704.5
1主題內(nèi)容與適用范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電鍍?nèi)芤赫叫阅艿脑囼?yàn)方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于具有各類整平性能的電鍍?nèi)芤骸?/span>
2引用標(biāo)準(zhǔn) GB6462金屬和氧化物覆蓋層橫斷面厚度顯微鏡測量力法。
3術(shù)語 整平作用：鍍液所具有的使鍍層表面比底層表面更平滑的能力。
4方法原理 人為地制造出有微觀粗糙平面的試樣，在待測鍍液中進(jìn)行電鍍，測量試樣表面電鍍前后微觀輪廓的變化，以評定鍍液的整平性能。
5試驗(yàn)方法 5．1假正弦波法 5．1．1概述 用裸銅線緊密纏繞銅棒制成表面有規(guī)則“波峰”、“波谷”的陰極試樣，在待測鍍液中電鍍，測量鍍后陰極試樣微觀表面“蜂”、“谷”振幅(鍍層厚度)的變化，評定鍍掖的整平能力。 5．1．2試驗(yàn)儀器及設(shè)備 a．帶攝影裝置的金相顯微鏡； b．金相鑲嵌機(jī)； c．金相拋光機(jī)； d．試驗(yàn)室電鍍設(shè)備。 5．1．3鍍液及工藝條件 待測鍍液及間隔層鍍液。選擇的間隔層鍍液僅有幾何整平性，其鍍層與待測鍍液鍍層色澤對比度較大為佳。多選用氰化鍍銅液和普通鍍鎳液。 電鍍工藝條件由相應(yīng)鍍液規(guī)定。 5．1．4陰極試樣及陽極 5．1．4．1陰極試樣 取45mm的銅棒，在銅捧一端，從偏離圓心處垂直于圓截面鋸開一 條長約2omm的細(xì)縫，用o．15mm裸銅絲沿銅棒鋸開段，一圈挨 一 圈地依次緊密纏繞銅棒成螺旋狀，佼其剖面呈現(xiàn)為有“波峰”、“波谷”狀有規(guī)則的假正弦波形，將其用作陰極試樣。
電鍍?nèi)芤涸囼?yàn)方法 極化曲線測定 JB/T7704 .6
1主題內(nèi)容與適用范圍 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了測量電鍍?nèi)芤簶O化曲線的方法。適用于測量電鍍?nèi)芤宏帢O和陽極極化曲線。
2術(shù)語 2．1極化 電解過程中電極電勢的變化。在此變化中陽極電勢總比其靜態(tài)電勢(無電流時(shí)的電勢)更正，陰極電勢則比其靜態(tài)電勢更負(fù)。極化值等于靜態(tài)電勢與動態(tài)電勢之差，通常用 mV表示。 2．2極化曲線 電極電勢與通過電極的電流密度的關(guān)系曲線。 2．3液界電勢 相接觸的兩種不同電解質(zhì)溶液，其界面的電勢差。
3概述 在測量鍍液極化曲線時(shí)，若將電流密度依次控制于不同的恒值，同時(shí)測定相應(yīng)電流密度值下的電極電勢，則所測得的極化曲線為恒電流極化曲線。若將電極電勢恒定，測定其恒值相應(yīng)的電流密度，則測得的極化曲線為恒電勢極化曲線。 通常恒電流法和恒電勢法都可用于測量單調(diào)函數(shù)(即一個電流密度只對應(yīng)一個電勢或一個電勢只對應(yīng)一個電流密度)的極化曲線。但某些電極過程中的電極極化達(dá)到一定程度后，電流密度會隨著電極極化的增加，達(dá)到極大值，而不能采用恒電流法。因?yàn)樵谶@種電極過程中，一個電流值可能對 應(yīng)幾個電極電勢值，此時(shí)，必須采用恒電勢法才能測得真實(shí)的極化曲線。 在實(shí)際測量時(shí)，可以采用穩(wěn)態(tài)靜電位法，即按一定的電流(或電勢)時(shí)間間隔逐點(diǎn)測量讀數(shù)。也可以采用穩(wěn)態(tài)動電位法，即以慢速掃描方式自動連續(xù)改變電流密度或電極電勢，自動記錄相應(yīng)的電極電勢與電流密度的關(guān)系曲線。本標(biāo)準(zhǔn)主要規(guī)定了測量極化曲線的穩(wěn)態(tài)法。
磁性和非磁性基體上鎳電鍍層厚度的測量 GB/T13744
本標(biāo)準(zhǔn)等效采用國際標(biāo)準(zhǔn)化組織ISO2361-1982《磁性及非磁性基體鎳鍍層厚度測量方法---磁性法》
1主題內(nèi)容與適用范圍 適用于磁性和非磁性基體上鎳電鍍層厚度的檢驗(yàn)。不適用于自動催化（非電鍍）鎳鍍層。
2引用標(biāo)準(zhǔn) GB4955金屬覆層厚度測量陽極溶解庫侖方法 GB6462金屬和氧化物覆蓋層橫斷面厚度顯微鏡測量方法
3術(shù)語、定義 a． A類鍍層：磁性基體鎳鍍層 b． B類鍍層：非磁性基體鎳鍍層。
4原理 磁性測厚僅是通過測量永久磁鐵(測頭)與基體之間因存在鍍層而引起的磁引力變化或通過測量鍍層與基體間的磁阻變化而反映其厚度的。
5裝置 該裝置是按第4章所述原理設(shè)計(jì)的專用儀器。 采用磁性原理設(shè)計(jì)的儀器對于兩類鍍層有著各自的測量范圍：A類鍍層的最大厚度是50μm；B類鍍層的最大測量厚度是25μm。 采用磁阻原理設(shè)計(jì)的儀器對于兩類鍍層有著基本相同的測量范圍最大測量厚度為 1 mm。
6影響測量精度的因素 下列因素可能影響鍍層的測量精度。 6．1鍍層厚度 測量精度與儀器的設(shè)計(jì)有關(guān)并隨鍍層厚度而異。對于薄的鍍層，其精度與鍍層厚度無關(guān)；對于厚的鍍層，其精度為厚度的一個近似的固定比值。
金屬覆蓋層 對底材為陰極的覆蓋層腐蝕試驗(yàn)后電鍍試樣的評級 GB6461
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電鍍層試樣經(jīng)腐蝕試驗(yàn)后試樣腐蝕狀態(tài)的評定方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于戶外大氣曝露試驗(yàn)后的試樣評級，也用于類似試樣經(jīng)加速腐蝕試驗(yàn)后的評級（如中性鹽霧試驗(yàn)、醋酸鹽霧試驗(yàn)、銅加速醋酸鹽霧試驗(yàn)、腐蝕膏試驗(yàn)等）。對于為適應(yīng)具體產(chǎn)品的評定而作的修改不在本標(biāo)準(zhǔn)之列。本方法僅適用于對底材為陰極的裝飾性和保護(hù)性覆蓋層。例如，鋼和鋅壓鑄件上電鍍鎳-鉻或銅-鎳-鉻鍍層。不適用于鋼上鍍鋅或鍍鎘之類的犧牲陽極性覆蓋層。本標(biāo)準(zhǔn)等效采用國際標(biāo)準(zhǔn)ISO4540-1980《金屬覆蓋層 對底材為陰極的覆蓋層 腐蝕試驗(yàn)后的電鍍試樣的評級》。
1原則
1．1鎳一鉻或銅一鎳一鉻等作為裝飾性和保護(hù)性鍍層具有保護(hù)底金屬避免腐蝕和保護(hù)覆蓋層本身滿意外觀兩種功能。據(jù)此；本標(biāo)準(zhǔn)就底金屬腐蝕和覆蓋層外觀損壞分別采用“保護(hù)”等級和“外觀”等級予以評定。
1．2針對覆蓋層對底樹腐蝕的保護(hù)能力所評定的級數(shù)稱為“保護(hù)”等級。
1．3試樣經(jīng)試驗(yàn)后所有外觀缺陷的評定級數(shù)稱為“外觀”等級。 注：對試驗(yàn)前有缺陷的試樣，一般拒絕接受投試o
1．4試樣檢查結(jié)果用斜線(／)將兩種級數(shù)分別記錄，保護(hù)級數(shù)記于上方。
1．5除試驗(yàn)檢查用數(shù)字記錄所評定的級數(shù)外，尚應(yīng)注明缺陷的程度與類型。缺陷的程度可用略語表示之[見附錄A(補(bǔ)充件)]。
1．6對于純屬保護(hù)性(非以裝飾性為目的)的陰極覆蓋層其外觀等級可以省略。
2缺陷的類型
2．1 “保護(hù)”缺陷(見附求A)包括凹坑腐蝕、針孔腐蝕、鼓泡、腐蝕產(chǎn)物以及底金屬腐蝕的其他缺陷。 注：對鋅基壓鑄件上電鍍層的鼓泡，通常意味著底金屬的腐蝕，但檢查者要判別鼓泡是否發(fā)生在底材與覆蓋層的界面上。
2．2 “外觀”缺陷除了因底金屬腐蝕引起的缺陷外，尚包括試樣外觀所有的損壞。典型的缺陷有：表面麻點(diǎn)，“雞爪狀”缺陷，開裂，表面沾污和失去光澤等。
2．3對曝露時(shí)因電鍍或預(yù)處理不當(dāng)而導(dǎo)致的缺陷應(yīng)予注明。如有大量此類缺陷的試樣則不予評級。
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